1) Ge/Si multilayer structures
Ge/Si纳米多层膜
2) Si/Ge multilayer
Si/Ge多层膜
1.
Photoluminescence of Si/Ge multilayer films deposited by ion-beam sputtering;
溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究
2.
The Si/Ge multilayers have been prepared by ion beam sputtering technique.
本文采用离子束外延技术制备了一系列的Si/Ge多层膜结构,对样品进行X射线和拉曼散射实验表征。
3) Ge/Si multilayer
Ge/Si多层膜
1.
Study on the Photoluminescence Properties of Ge/Si multilayer Films Deposited by Magnetron Sputtering;
磁控溅射Ge/Si多层膜的发光特性研究
4) SiNx/Si multilayers
SiNx/Si纳米多层膜
1.
The SiNx/Si multilayers is deposited alternately by magnetron sputtering and appear to amorphous phase.
采用非平衡磁控溅射技术制备氢化硅薄膜和SiNx/Si纳米多层膜,并对其结构与性能进行了分析。
5) multilayered Ge nanocrystals
多层Ge纳米晶
6) nanocrystalline Ge thin films
纳米Ge薄膜
补充资料：Palanil Yellow GE
分子式：C18H15N3O4S
分子量：369.41
CAS号：暂无
性质：黄褐色粉状，溶于乙醇、丙酮和苯。在浓硫酸中呈暗黄光棕色溶液，稀释后成黄色沉淀。染色时遇铜、铁无明显的色光变化。熔点157℃。
制备方法：将邻硝基氯苯进行氯磺化，而后与苯胺缩合，再经过滤、研磨、干燥及商品化处理，而制得产品。原料消耗（kg/t）邻硝基氯苯 410苯胺 600氯磺酸 2200冰醋酸 1000乙酸钠 80纯碱 1000烧碱 100扩散剂NNO 700
用途：主要用于涤纶及其混纺织物的染色和印花，也可用于乙酸纤维、三乙酸纤维及腈纶的染色。该品具有优良的染色性能和牢度，用途广。可分散红玉SE-GFL、分散蓝2BLN组成三原色，进行拼色使用。涤/棉织物热熔轧染，可与分散大红RR拼色。
分子量：369.41
CAS号：暂无
性质：黄褐色粉状，溶于乙醇、丙酮和苯。在浓硫酸中呈暗黄光棕色溶液，稀释后成黄色沉淀。染色时遇铜、铁无明显的色光变化。熔点157℃。
制备方法：将邻硝基氯苯进行氯磺化，而后与苯胺缩合，再经过滤、研磨、干燥及商品化处理，而制得产品。原料消耗（kg/t）邻硝基氯苯 410苯胺 600氯磺酸 2200冰醋酸 1000乙酸钠 80纯碱 1000烧碱 100扩散剂NNO 700
用途：主要用于涤纶及其混纺织物的染色和印花，也可用于乙酸纤维、三乙酸纤维及腈纶的染色。该品具有优良的染色性能和牢度，用途广。可分散红玉SE-GFL、分散蓝2BLN组成三原色，进行拼色使用。涤/棉织物热熔轧染，可与分散大红RR拼色。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条