1) alternating aperture phase shift mask
交替移相掩模技术
2) Alternating phase-shift mask
交替型相移掩模
3) alternating PSM
交替式移相掩模
1.
Another method is to decompose the original design pattern into several alternating PSM sub-patterns based on geometrical rules and multiple-exposure of these sub-masks.
讨论了100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键问题,以及通过对版图的拓扑分析,建立自动化的解决相位冲突的各种方法。
4) alternating phase shifting mask
交替移相掩模
5) alternating mask
交替式相移掩模
6) Mask moving technique
掩模移动技术
1.
Mask moving technique is a fabrication technique for micro-opti cal elements with continuous relief.
掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。
补充资料：相掩
1.相抵。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条