3) Ion beam deposition
离子束沉积
1.
Sn and In soft metal films, Al2O3 ceramic film and In/Al2O3 dual film were prepared with ion beam deposition technique.
采用离子束沉积方法在Ta12W合金表面制备了Sn,In软金属薄膜,Al2O3陶瓷薄膜和In/Al2O3复合薄膜。
2.
The (111) textured cubic silicon carbide (3C-SiC) thin films are deposited on (111) Si substrates using the mass-selected ion beam deposition technique at various substrate temperatures.
在硅衬底上利用具有质量选择功能的低能离子束沉积技术沉积碳离子制备出除碳、硅之外无其他杂质元素的纯净的立方SiC薄膜。
4) iron ion sedimentation
铁离子沉积
5) calcium phosphorus precipitation
钙磷沉积
补充资料：硼钙石,水化硼酸钙,硬硼钙石
CAS：12007-56-6
分子式：B4CaO7
中文名称：四硼酸钙；硼酸钙；硼钙石,水化硼酸钙,硬硼钙石
英文名称：Boron calcium oxide；Calcium borate；boric acid (h2-b4-o7), calcium salt ；boron calcium oxide (b4cao7)；calcium tetraborate；colemanite
分子式：B4CaO7
中文名称：四硼酸钙；硼酸钙；硼钙石,水化硼酸钙,硬硼钙石
英文名称：Boron calcium oxide；Calcium borate；boric acid (h2-b4-o7), calcium salt ；boron calcium oxide (b4cao7)；calcium tetraborate；colemanite
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条