硅注入激活率,implanted silicon activation,音标,读音,翻译,英文例句,英语词典

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1) implanted silicon activation 点击朗读

硅注入激活率

2) activator injection 点击朗读

激活剂注入

3) laser energy injection efficiency 点击朗读

激光能量注入率

The experimental results show that CH plating hole targets have higher laser energy injection efficiency.

在“星光Ⅱ”上测量了入射孔边缘镀ＣＨ膜的孔靶激光能量注入率，给出了注入率随入射激光能量和波长变化的经验公式，同时对堵口现象物理机理进行了一维数值模拟。

4) Implanted silicon 点击朗读

注入硅

例句>>

5) Y implantation in silicon 点击朗读

Y注入硅

6) Ti implantation into silicon 点击朗读

Ti注入硅

补充资料：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物

CAS：28630-33-3
分子式：(C12H10Cl2Si·C6H5Cl3Si·C2H6Cl2Si·CH3Cl3Si)x
中文名称：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物
英文名称：Silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethylsilane and trichlorophenylsilane silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethyl

说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。

参考词条

注入概率激活率激活速率 ADH激活率电注入激光

硅注入激光注入注入活力磷、硅共注入注入速率注入效率

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	您的位置：首页 -> 词典 -> 硅注入激活率 1) implanted silicon activation 硅注入激活率 2) activator injection 激活剂注入 3) laser energy injection efficiency 激光能量注入率 1. The experimental results show that CH plating hole targets have higher laser energy injection efficiency. 在“星光Ⅱ”上测量了入射孔边缘镀ＣＨ膜的孔靶激光能量注入率，给出了注入率随入射激光能量和波长变化的经验公式，同时对堵口现象物理机理进行了一维数值模拟。 4) Implanted silicon 注入硅例句>> 5) Y implantation in silicon Y注入硅 6) Ti implantation into silicon Ti注入硅补充资料：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物 CAS：28630-33-3 分子式：(C12H10Cl2Si·C6H5Cl3Si·C2H6Cl2Si·CH3Cl3Si)x 中文名称：二氯二甲基硅烷与二氯二苯基硅烷、三氯甲基硅烷、三氯苯基硅烷和三氯苯基硅烷的聚合物英文名称：Silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethylsilane and trichlorophenylsilane silane, dichlorodimethyl-, polymer with dichlorodiphenylsilane, trichloromethyl 说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。参考词条注入概率激活率激活速率 ADH激活率电注入激光

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