1) Lithography Lenses
大视场光刻物镜
2) lithography lens
光刻物镜
1.
The simplicity method of MTF test for submicron projection lithography lenses;
亚微米投影光刻物镜MTF的简便测定方法
2.
The design of 193nm projection lithography lens has been introduced.
介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜的研制,对结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑,提出投影光刻物镜结构设计和装配方法。
3) objective angular field
物镜视场
4) design of lithography lens
光刻物镜设计
5) photolithographic lenses
投影光刻物镜
1.
Optical assembly and rectification of sub micro (i line and g line) photolithographic lenses;
亚微米(i线和g线)投影光刻物镜的光学装校
6) wide view field microscope
大视场显微镜
1.
The optical principle and technical character of wide view field microscope are introduced.
描述了大视场显微镜的光学原理 ,技术特点 ,介绍了仪器的主要光学部件 :辅助物镜、物镜、球面反射镜、大目镜的设计方法 ,并给出了仪器的基本参数。
补充资料：视场
视场代表着摄像头能够观察到的最大范围，通常以角度来表示，视场越大, 观测范圉越大。例如有些摄像头的视场是50度，而有些是58度，后者相比前者在同等距离的情况下就能拍摄到更大的景物范围。目前一般的摄像头的视解均在52度左右，更有甚者可达180度、360度（摄像头底座固定，镜头可以作一周旋转）。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条