1) SU-8/DR1 material
交联型SU-8/DR1材料
2) Crosslinkable materials
可交联型材料
4) SU-8 photoresist
SU-8胶
1.
Study on dimensional precision of UV-lithography on SU-8 photoresist;
SU-8胶紫外光刻的尺寸精度研究
2.
With the application of neural network,process parameters of negative SU-8 photoresist were optimized in terms of internal stress.
根据基片曲率法的原理,通过三因素三水平的正交实验,测量了9组不同工艺条件下SU-8胶层内应力的大小。
3.
Thermal swelling of SU-8 photoresist and its mechanism were investigated.
对SU-8胶的热溶胀效应及其机理进行了研究,在现有微模具的UV-LIGA工艺的基础上,利用AN-SYS对SU-8胶的热溶胀性规律进行了仿真分析。
5) SU-8 resist
SU-8胶
1.
The development process of the high resolute and high aspect ratio microstructure with SU-8 resist on the metal substrate was discussed, and the development rule of resist with different graphic feature and thicknesses from 120-340 μm was analysed.
突破了传统深宽比概念,提出金属基底上基于图形特征的光刻胶显影技术,对采用SU-8胶加工高分辨率和高深宽比微结构的显影工艺进行了讨论,分析了120～340μm厚具有不同图形特征的SU-8胶显影规律,认为在同样条件下,凸型图形显影效果优于凹型非连通性图形;曲线型显影效果优于直线型图形与点状图形;圆弧连接的图形显影效果优于尖角型图形。
2.
In this paper,UV-LIGA technology was investigated to fabricate the ultra-high micro electrode array,and the micro electrochemical machining was used as an aided method to remove the SU-8 resist.
采用UV-LIGA技术制作超高金属微细阵列电极,并利用电解置桩的方法辅助去除SU-8胶。
6) SU-8 mold
SU-8模具
1.
Fabrication process optimization of SU-8 mold for PDMS microchip plastic molding;
用于PDMS微芯片塑性成型的SU-8模具制作工艺的优化
补充资料：光交联型感光高分子
分子式：
CAS号：
性质：指吸收光能后，线性高分子本身，或者线性高分子与小分子交联剂能够发生交联反应，形成网状结构，具有这种性质的高分子材料称为光交联高分子。光交联感光高分子材料一般要求材料内部，或者分子内部具有能吸收理想波长光能的光敏剂或者光敏感基团，还需要具有能将光能转化为化学能的转换条件，同时在聚合物分子内部具有可交联结构，如双键、环氧基等也是必备条件。光交联型感光高分子主要有重铬酸盐与聚乙烯醇等胶体物质构成的感光体系、聚乙烯醇肉桂酸酯衍生物与增感剂感光体系等。光交联型感光高分子材料在光致刻蚀剂、光敏油墨、光敏涂料和光敏胶的制备方面有广泛应用。
CAS号：
性质：指吸收光能后，线性高分子本身，或者线性高分子与小分子交联剂能够发生交联反应，形成网状结构，具有这种性质的高分子材料称为光交联高分子。光交联感光高分子材料一般要求材料内部，或者分子内部具有能吸收理想波长光能的光敏剂或者光敏感基团，还需要具有能将光能转化为化学能的转换条件，同时在聚合物分子内部具有可交联结构，如双键、环氧基等也是必备条件。光交联型感光高分子主要有重铬酸盐与聚乙烯醇等胶体物质构成的感光体系、聚乙烯醇肉桂酸酯衍生物与增感剂感光体系等。光交联型感光高分子材料在光致刻蚀剂、光敏油墨、光敏涂料和光敏胶的制备方面有广泛应用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条