1) I/P Buffer
I/P Buffer
2) I/P buffer
I/P界面
1.
Unchanging n-i-p layers, the effects of different kinds of I/P buffers on the efficiency of solar cells have been investigated.
在稳定各层材料沉积工艺的条件下,仅调整I/P界面的处理方式,研究其对太阳电池性能的影响。
3) i_p
i_p
4) (i,p)-homologyinverse
(i,p)-同调逆
5) ~(125)I-P-CIT
~(125)I-β-CIT
6) P G I P
小麦植保素
1.
P G I P and w heat phytoalexin are tw o im portant indicators of w heat defenseresponses.
选择了小麦体系的两种抗性物质- 小麦植保素和 P G I P作为小麦的抗性指标来分离分
参考词条
I P broadband network
(i,p)-homotopy inverse
I_P-U_2 Curves
3km I. P
I-P Controller
I-P-O model
I-P/S model
I-P control strategy
I/P converter
I/P analysis
I/P converter
I-P/C model
n-i-p solar cells
i_p-i_q algorithm
i_(p)-i_(q) method
i_p-i_q method
I_P-V_(G2) curve
i_p-i_q arithmetic
同步成型
侧面/基体
补充资料:buffer
分子式:
CAS号:
性质:能被用来控制高温高压状态下气体逸度的固体组合。常用的缓冲剂有四类:(1)氧缓冲剂,是包括水在内的固体组合,在固定温度和总压条件下能产生恒定的氧逸度,用于H-O体系;(2)石墨缓冲剂,在一定温度和总压条件下,石墨的存在确定了体系的各种气相成分和逸度,用于C-O体系;(3)氧和石墨联合缓冲剂,用于C-O-H体系;(4)酸碱缓冲剂,fHZ由外部提供,纯固相银和纯液相氯化银在一定的温度和压力下平衡,即可产生固定的。fHCl,用于H-O-Cl体系。缓冲剂在电镀中能抑制电镀液pH值的变化。如镀镍溶液中加入硼酸,其缓冲范围与电镀液的pH值5~6接近,因而它能有效地抑制电镀过程中引起的阴极附近溶液pH值的变化。此外,在其他一些电镀溶液中,铵盐、醋酸盐、柠檬酸盐等也得到应用。
CAS号:
性质:能被用来控制高温高压状态下气体逸度的固体组合。常用的缓冲剂有四类:(1)氧缓冲剂,是包括水在内的固体组合,在固定温度和总压条件下能产生恒定的氧逸度,用于H-O体系;(2)石墨缓冲剂,在一定温度和总压条件下,石墨的存在确定了体系的各种气相成分和逸度,用于C-O体系;(3)氧和石墨联合缓冲剂,用于C-O-H体系;(4)酸碱缓冲剂,fHZ由外部提供,纯固相银和纯液相氯化银在一定的温度和压力下平衡,即可产生固定的。fHCl,用于H-O-Cl体系。缓冲剂在电镀中能抑制电镀液pH值的变化。如镀镍溶液中加入硼酸,其缓冲范围与电镀液的pH值5~6接近,因而它能有效地抑制电镀过程中引起的阴极附近溶液pH值的变化。此外,在其他一些电镀溶液中,铵盐、醋酸盐、柠檬酸盐等也得到应用。
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