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1)  Thin film deposition theory
薄膜沉积机理
2)  thin film deposition
薄膜沉积
1.
Fresnel lens fabricated by thin film deposition;
薄膜沉积法制作菲涅耳透镜
2.
A novel technique-anodic vacuum arc coating for thin film deposition is reviewed in this paper.
本文介绍了一种新的薄膜沉积方法──阳极真空电弧镀膜法。
3.
The 16-step Fresnel lens had been fabricated by thin film deposition and ion beam etching and it has been used in refractive-diffractive CCD camera.
使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作16阶菲涅耳透镜,应用于折衍混合CCD相机。
3)  film deposition
薄膜沉积
4)  sedimental CeO 2 film
沉积CeO2薄膜
5)  As-deposited film
沉积态薄膜
6)  Electroplated copper thin film
电沉积铜薄膜
补充资料:A机理
分子式:
CAS号:

性质:缔合机理  association mechanism  简称A机理(A mechanism)。在配位化合物MLnX被Y取代反应中,Y接近MInX,先于X的离去。反应速率决定步骤有中间体生成,具有比原来配位化合物高的配位数。新键的生成是反应速率的决定步骤。例如,反应[Pt(NH3)3Cl]++Br-[Pt(NH3)3Br]++Cl-其反应速率可表示为V=kc[Pt(NH3)3Cl+)c(Br-)。反应速率与配位化合物浓度c(Pt(NH3)2Cl+)及外来配体浓度c[Br-]均有关。其特点是双分子的二级反应。

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参考词条