1)  Spherulite
晶片形态
2)  wafers
晶片
1.
Double-sided polishing process is a precise machining method for silicon wafers.
晶片在双面抛光加工过程中具有多向运动、受力复杂、表面材料微细去除的特征,晶片的运动和受力是影响双面抛光加工质量的主要因素。
3)  wafer
晶片
1.
CdSe Detector Wafer Surface Treatment and Passivation Study;
CdSe探测器晶片表面处理和钝化研究
2.
Free-pyro black LiNbO_3 and LiTaO_3 wafers were prepared successfully by chemical reduction at (700 °C) and 450 °C respectively under a mixed atmosphere of CO_2 and H_2.
采用化学还原工艺,在CO2与H2混合气氛下对LN和LT晶片分别进行700°C和450°C退火处理,成功地制备了LN和LT黑色晶片。
4)  crystal wafer
晶片
1.
Ultra precision-machining technology for crystal wafers;
晶片材料的超精密加工技术现状
2.
The article directly introduced crystal wafer processing and other main parameters through testing diagrams,meanwhile four inch LiNbO3 wafer s reaching level of Ningxia Orient Tantalum Industry.
通过检测图片,直观地介绍了衡量晶片加工水平各主要参数的意义;同时,介绍了宁夏东方钽业4英寸LN(LiNbO3)晶片研发的进展,并和目前国外4英寸LN晶片加工水平进行了对比。
5)  wafer/silicon-on-insulator wafer
晶片/SOI晶片
6)  crystal plate interference
晶片干涉
参考词条
补充资料:氨酚伪麻片(日片)与氨苯伪麻片(夜片)
药物名称:氨酚伪麻片(日片)与氨苯伪麻片(夜片)

英文名:Compound paracetamol Combination Tablets

汉语拼音:

主要成分:日服片:对乙酰氨基酚、盐酸伪麻黄碱;夜服片:对乙酰氨基酚、盐酸伪麻黄碱、盐酸苯海拉明。

性状:日服片为白色,夜服片为蓝色。

药理作用:动物试验表明本品具有解热、镇痛、镇静作用,另可降低鼻气道阻力及粘膜血管的通透性。

药代动力学:

适应症:用于治疗感冒引起的发热、头痛、四肢疼痛、鼻塞、流涕、喷嚏等症状。

用法与用量: 白天服日服片,每日二次(8小时一次),每次1~2片。
晚上睡前服用夜服片,一日一次,每次1片。

不良反应:偶见。为轻度口干、口苦、上腹不适、困倦、多汗等。

禁忌症:对(包括日服片和夜服片)组分过敏者禁用。

注意事项: 1.每日不超过8片,疗程不超过7天。超量服用可产生头晕、失眠、神经质等症状。
2.心脏病、高血压、甲亢、糖尿病、青光眼、肺气肿等呼吸困难、前列腺肥大伴排尿困难者不宜服用。
3.避免与降压药或抗抑郁药同时服用,服药期间避免饮酒。
4.孕妇、哺乳期妇女使用前应咨询医生。
5.服用本品若症状未改善或伴高热,应及时停药。
6.对麻黄碱药理作用敏感者及老年人慎用。12岁以下儿童不宜服用。
7.夜用片服药期间可引起头晕、嗜睡,故不宜驾车、高空作业及操纵机器。

规格:每片含 日服片 夜服片
对乙酰氨基酚 0.325g 0.5g
盐酸伪麻黄碱 30mg 30mg
盐酸苯海拉明

贮藏:遮光,密闭保存。

有效期:暂定二年。

处方药:
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。