1) photolitho-pattern
光刻图形化
3) microlithography pattern
微光刻图形
1.
A new algorithm which is used to transform center-hollowed polygons of CIF format in microlithography pattern into rectangles of PG3600 format is presented.
给出了一种微光刻图形CIF格式的中间挖空多边形切割成PG3600格式所需矩形的新算法。
4) resist image
光刻胶图形
5) Dual-patterning Exposure
双重图形光刻
6) light-sensitive chemical scribing
感光化学刻图
补充资料:双叠氮-环化橡胶光刻胶
分子式:
CAS号:
性质:指用双叠氮化合物与经环化后的橡胶(如环化天然橡胶、环化聚异戊二烯橡胶)组成的混合体系,作为光刻胶使用。双叠氮化合物是光敏交联剂,光照下体系发生如下反应:从而聚合物分子间交联。该类型的光刻胶一般为环化橡胶的甲苯溶液,浓度为8%~10%。光敏交联剂加人量为环化橡胶的10%以下,增感剂可以用二苯甲酮或蒽酮等,加入量为5%左右。
CAS号:
性质:指用双叠氮化合物与经环化后的橡胶(如环化天然橡胶、环化聚异戊二烯橡胶)组成的混合体系,作为光刻胶使用。双叠氮化合物是光敏交联剂,光照下体系发生如下反应:从而聚合物分子间交联。该类型的光刻胶一般为环化橡胶的甲苯溶液,浓度为8%~10%。光敏交联剂加人量为环化橡胶的10%以下,增感剂可以用二苯甲酮或蒽酮等,加入量为5%左右。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条