1) Electronic defects
电子缺陷
3) defect factor
缺陷因子
4) defective particles
缺陷粒子
1.
For searching the burst cause of PVC-U pipes during hydrolic test under low pressure, the cracked sections of those PVC-U pipes were observed and the defective particles were found in them.
为探索在试压时低压下即破裂的硬聚氯乙烯 (PVC U)管材的破裂原因 ,对这些破裂管材的断裂面进行了仔细观察 ,发现在这些断裂面上均有缺陷粒子存在。
5) atom defect
原子缺陷
1.
N d is related to bulk atom defects and rests with ionized intrinsic and extrinsic shallow donors Zn ′ i,Zn ″ i, Al * Zn at room temperature.
Nd与体内原子缺陷有关 ,室温下主要取决于电离的浅能级本征和非本征施主Zn·i,Zn¨i和Al·Zn,Ns和Es与界面原子缺陷密度和性质有关 。
6) Ionic defect
离子缺陷
补充资料:固体缺陷的电子结构
固体缺陷的电子结构
electronic structure of defects in solids
固体缺陷的电子结构eleetronie strueture ofdefeets in sollds固体中存在缺陷,导致电子能带的变化。固体中任何类型缺陷的存在,都会破坏原有晶体的三维平移周期性。因此,所有根据晶体周期性得出的关于能带结构的结论,都可能因存在缺陷而变化,例如常见的因固体中某些杂质和缺陷存在而在禁带中引进局域能级。在晶体中有缺陷因而布洛赫定理不再成立的情况下,薛定愕方程有两个主要解法。如果电子在有缺陷的固体中的势能与完整晶体中的势能差一个函数,这个函数是在整个晶体的原子上缓慢变化的,那么有效质量近似法有效。在这个近似法中,完整晶体周期性势场的作用反映在电子的有效质量中,然后求解具有有效质量的电子的薛定谬方程,其势函数V(r)是电子在完整晶体中的势函数与有缺陷的晶体中的势函数之差Zm.必+V(r)必=E沪式中m.是电子的有效质量,充为普朗克常数,E为系统能量。如果V(r)是库仑势一梦店r,其中:是晶体的介电常数,那么上式与氢原子的方程具有相同的形式,因而会得到类似的能级与波函数。氢的电离能谱相当于导带,真空能级相当于导带底。类氢态出现在导带下面的禁带内。由于介电常数£,这些态可以比在氢中的态相隔近得多。 如果V(r)不是缓慢变化的势,则必须用另外的近似法。这种情况出现在金属中,当一个不同价的杂质替代了一个点阵原子时,将引进附加的电荷。根据经典理论,金属中不能有静电位梯度,因为金属的自由电子会自行重新分布,将它屏蔽掉。4在原子尺度范围,屏蔽是不完全的,于是保留着某些局域势。然而,这是一个原子间距数量级的短程势。对于这种情况,提出了一个所谓“突变”近似法来解薛定谬方程。如果杂质的势足够强,在部分填满的导带下面会出现束缚态,可以用磁共振技术观察到这样屏蔽的局域态。 (王以铭曾令之)
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参考词条