1) magnetic abrasive particles
磁性研磨粒子
2) Magnetic abrasive finishing
磁粒研磨
1.
The experiment research for the digital precision techniques of magnetic abrasive finishing;
磁粒研磨光整加工的实验研究
2.
The application of finite element method in magnetic abrasive finishing using rotating magnetic field;
有限元法在旋转磁场磁粒研磨加工技术中的应用
3) magnetic abrasive grains
磁性磨粒
1.
The magnetic field forms a magnetic abrasive tool composed of magnetic abrasive grains (MAGS) in magnetic abrasive finishing.
磁力研磨是一种新的研磨工艺,本文从磁力研磨加工过程中磁性磨粒的磨削机理出发,进一步论述了磁性磨粒的性能要求和制备技术,并通过实验尝试了磁性磨粒的制备。
4) magnetic abrasive finishing
磁性研磨
1.
Research on surface roughness characteristics of curved surface in magnetic abrasive finishing;
曲面磁性研磨加工的表面粗糙度特性研究
2.
In the magnetic abrasive finishing of module steel,the surface roughness Ra 1.
通过实验对所制备的粘结磁性磨料进行了性能分析,结果表明磁性磨料粒度为40目时研磨效果最佳,用于模具钢的磁性研磨原始表面Ra1。
3.
The magnetic abrasive finishing is a new technology used to process the surface of work piece by the relative motion with magnetic abrasive in the magnetic field.
磁性研磨是一种利用磁场中的磁性磨料对具有相对运动的工件表面进行光整加工的新技术。
5) Magnetic abrasive machining
磁性研磨
1.
Experimental study on magnetic abrasive machining of inner surface of small diameter hole;
小孔径内圆表面磁性研磨加工实验研究
6) magnetic abrasive
磁性研磨
1.
In this paper, we propose a new polishing technology for polishing diamond thin film with magnetic abrasive polishing.
文中针对内孔金刚石薄膜,提出了一种新的抛光方法——磁性研磨抛光。
2.
Utilize the characteristic that magnetic force line may penetrate the nonmagnetic material,use the magnetic abrasive finishing(MAF) method complete to the nonmagnetic small workpiece surface precise processing.
利用磁力线能够穿透非磁性材料的特性,用磁性研磨法对小型的非磁性工件进行精密抛光。
3.
It is magnetic abrasive finishing technique,so as its we I I fI exibiIity , seIf-adaptabiIity and the characteristic of shapeness by itself etc.
而磁性研磨光整加工技术，以其磨料磁刷柔性好、自适应性强、自锐性好等突出的加工特点，使自由曲面的磁性研磨数控加工成为可能，是最具潜力实现抛光自动化的光整加工方法。
补充资料：磁性材料2．薄膜磁性材料
磁性材料2．薄膜磁性材料
Magnetie Materials 2.Thin Film
在一定外加磁场作用下，其反磁化畴(磁矩取向与外磁场方向相反的畴)变为圆柱形磁畴。从膜面上看，这些柱形畴好像浮着的一群圆泡，故称磁泡或叫泡踌(另见磁性材料2.昨晶态磁性材料)。在特定的电路图形、电流方向和一定磁场情况下，可做到控制材料中磁泡的产生、传翰和消失，实现信息的储存和逻辑运算的功能。磁泡的直径在微米量级(0 .5~5协m)，每个磁泡的迁移率在1 .26~12.6em八s·A/m)〔 102一i03cm八s·oe)〕，因而可制成存储密度为兆位/cmZ(Mbit/cmZ)和数据处理速率为兆位/s(M肠t/s)的运算器件。磁泡器件经过近20年研究和开发，已取得广泛的实际应用。 对磁泡材料的主要要求是:(l)各向异性常数凡>粤斌，磁化强度从>外磁场强度H;(2)杂质缺陷小，2一~”~’.J泌~-一‘产’~~一~一’、~尹一~~~’J”均匀性好。目前研究得比较清楚的有铁氧体单晶薄膜和稀土一过渡金属薄膜。从制备工艺和性能稳定、器件开发等情况看，以铁氧体磁泡材料比较成熟，早期是用钙钦石型铁氧体单晶片来作磁泡材料，后为YIG单晶薄膜所取代。它是用液相外延法在Gd3Ga5OI:(简称GGO)基片上生成的单晶薄膜，其厚为微米量级。表4为稀土石榴石R3FesolZ的磁性;表5为一些磁泡材料的基本特性数值。农4稀土石抽石R.Fe‘ol，的磁性┌───────────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬─────┬────┬────┐│R │Y │Sm │EU │Gd │Tb │Dy │、Ho │Er │T】11 │Yb │Lu │├───────────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼─────┼────┼────┤│补偿温度，~p，K │ 560 │ 560 │ 570 │ 290 │ 246 │ 220 │ 136 │ 84│4
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条