1) ruthenium electrodeposition
电沉积钌
2) deposition voltage
沉积电压
1.
Influence of deposition voltage on nanoporous ZnO films by electrochemical synthesis;
沉积电压对电化学合成纳米ZnO多孔薄膜的影响
2.
The influence of deposition voltage on the phase composition and microstructure of HAp coatings was investigated.
采用水热电沉积法在碳/碳复合材料表面制各了羟基磷灰石(hydroxyapatite,HAp)涂层,用X射线衍射、扫描电子显微镜,万能材料试验机等测试手段对涂层进行了表征,研究了沉积电压对HAp涂层晶相和显微结构的影响。
3.
The effect of deposition voltage on auxiliary heat PCVD-TiN coatings has been studied.
研究了不同的沉积电压对辅助加热式PCVD -TiN涂层的影响。
3) electrodeposition
电沉积
1.
Application of electrochemical impedance spectroscopy to the research of electrodeposition—Part I;
电化学阻抗谱在电沉积研究中的应用(一)
2.
New Evolution of Electrodeposition of Nanoalloys;
电沉积纳米晶合金的最新进展
3.
Effect of hydrogen evolution on the growth of nickel dendrite by electrodeposition;
析氢对电沉积镍枝晶生长的影响
4) electrochemical deposition
电沉积
1.
Study on the preparation of calcium phosphate coatings on Ti substrate by electrochemical deposition under different conditions;
电沉积钙磷盐涂层及其影响因素的研究
2.
The bio-coatings were prepared on the surface of titanium alloy(Ti-6Al-4V) by electrochemical deposition technique.
通过采用恒电流模式和脉冲电源模式考察不同的电源模式对电沉积磷酸钙涂层的影响。
3.
The surfaces of the electrodes were prepared by electrochemical deposition.
5,1,2),制备稀土(La,Nd)掺杂Sn,Sb溶胶,以钛电极为基体,用溶胶-凝胶法制备稀土(La,Nd)掺杂SnO2中间层,热处理温度为450和500℃,热处理时间共5 h;采用电沉积法制备PbO2表面层,得到改性PbO2阳极,优化了制备改性PbO2电极的稀土掺杂量。
6) electrodeposit
[英][i,lektrəudi'pɔzit] [美][ɪ,lɛktrodɪ'pɑzɪt]
电沉积
1.
Performance of soft magnetic iron foil by electrodeposition;
电沉积软磁铁箔性能的研究
2.
Investigation of the Performance of Electrodeposited Zn-Fe Alloy;
硫酸盐电沉积Zn-Fe合金性能的研究
3.
Research on Relationship Between Hardness and Modulated Wavelength of Cu/Ni Multilayers by Electrodepositing;
电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究
补充资料：电沉积层织构
分子式：
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条