1) mask-imaging method
掩膜成像法
2) picture masking
图像掩膜
4) phase masks
相位掩膜法
1.
Research on Fiber Bragg grating fabrication with phase masks;
相位掩膜法制作光纤布拉格光栅的研究
5) speckle masking imaging
斑点掩蔽成像
6) maskless pattern generation
无掩模图像生成
补充资料:掩模版保护膜
分子式:
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
CAS号:
性质:一种很薄的光学透明膜,一般由硝化纤维组成。将该透明膜黏附在框架上,由框架来支承,并黏附在光掩模版(或光掩模中间板)上。它的目的是密封,防止沾污物,减少由曝光系统图像平面中的污染而引起的光刻缺陷。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条