1) soft X-ray phase grating
软X射线位相光栅
2) Soft X-ray transmission grating
软X射线透射光栅
3) Soft x-ray flat-field spectrograph
软X射线平场光栅谱仪
4) X-ray grating
X射线光栅
1.
The diffraction performance of X-ray grating based on the Fresnel diffraction theory is presented in the case of polychromatic source.
基于Fresnel衍射理论,分析了复色光源X射线光栅衍射效率。
5) X-ray transmission gratings
X射线透射光栅
1.
For fabricating X-ray mask of high line-density X-ray transmission gratings,the field stitching of E-beam lithography was analyzed when patterning high line-density gratings;by using pattern correction and low sensitive 950 k PMMA resist,the proximity effect of electron beam was effectively depressed when exposing thick resist spun on polyimide membrane.
为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950 k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响。
2.
The manufacture of high-line-density X-ray transmission gratings for X-ray spectroscopy by using electron beam lithography and X-ray lithography was reported.
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。
6) X-ray transmission grating
X射线透射光栅
1.
Fabrication of high-aspect-ratio and high-density X-ray transmission grating
大高宽比、高线密度X射线透射光栅的制作
2.
Using the same fabrication processes,the X-ray transmission grating,which has the line density of 3333 1/mm and the thickness of 1000 nm,has been fabricated.
本文针对X射线成像波带片和光栅在X射线显微成像技术中的应用,把电子束光刻和X射线光刻技术相结合,在深入研究电子束光刻和X射线光刻工艺技术的基础之上,成功制作了最外环宽度为100 nm,厚度为700 nm和1300 nm的大高宽比X射线成像波带片,制作了线密度为3333 l/mm,厚度为1000 nm的大高宽比、高线密度X射线透射光栅。
补充资料：软X射线显现电热能谱 SXAPS
分子式：
CAS号：
性质：将电子束射于固体上，当其能量超过显现能量才能激发出特定的X射线。测量和跟踪激发的X射线强度与入射电子能量的关系可了解表面组成，因为当因吸附等原因而引起表面组成变化时其相应的电势谱峰发生变化。但是，在分析表面组成上SXAPS的灵敏度远不及俄歇电子能谱（AES）。
CAS号：
性质：将电子束射于固体上，当其能量超过显现能量才能激发出特定的X射线。测量和跟踪激发的X射线强度与入射电子能量的关系可了解表面组成，因为当因吸附等原因而引起表面组成变化时其相应的电势谱峰发生变化。但是，在分析表面组成上SXAPS的灵敏度远不及俄歇电子能谱（AES）。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条