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1)  avalanche electron emission
雪崩电子发射
2)  electron avalanche
电子雪崩
1.
Because there is no an ideal model to describe the gas discharge,the electron avalanche is considered as the basic process in gas discharge.
针对目前气体开关仿真模型不能客观反映亚纳秒气体开关放电物理过程的问题,提出了一种电子雪崩过程仿真模型。
2.
The atmospheric pressure discharge in an air gap between two dielectric barrier electrodes has been studied experimentally and the development of an electron avalanche in such an air gap was simulated numerically.
利用介质阻挡电极结构 ,对 1 0 132 5× 10 5Pa气压下空气间隙中的放电进行了实验研究 ,数值模拟计算了实验条件下电子雪崩的发展过程 。
3)  electron avalanche
电子雪崩<冶>
4)  avalanche electronic current
雪崩电子电流
1.
The avalanche electronic current gave rise to the evolution.
雪崩电子电流导致了在壁垒层/污染层界面上O2的析出。
5)  Runaway electron avalanche
雪崩型逃逸电子
6)  electron avalanche amplification
电子雪崩倍增
补充资料:次级电子发射
      通常指由于初级电子撞击固体,导致固体内发射电子的过程。它是制作扫描电子显微镜、电子倍增器、光电倍增管及很多真空器件的基础。扫描电子显微镜的次级电子像又是区别不同表面形貌的重要手段,但它的分析深度大约是200┱。
  
  次级电子产额 δ定义为对应于每个初级电子所发射出的次级电子数目,δ的数值与初级电子的能量有关。由固体发射的次级电子依赖于体内和表面的电子结构、入射束的能量及角度以及表面形貌。次级电子发射可认为有三个基本步骤:固体内的电子被激发到高能态;然后在表面附近运动;最后克服表面势垒逃逸到真空。可将电子在表面附近的传播和逃逸表面的能力用逃逸深度表示。逃逸深度一般与入射束的能量关系较小,而与样品种类关系很大。例如对金属,电子间相互作用强,在传播过程中能量损失大,逃逸深度小于10nm,电子产额极值δm也较小。对于绝缘体,电子逃逸表面时只有用于激发声子的能量损失。逃逸深度和δ都比金属大。
  
  次级电子的动能大多数小于50eV,远离次级电子能谱主峰,位于1~6eV的峰称做慢峰。俄歇电子也是次级电子,是强度很低的次级电子,用作表面化学分析。
  
  晶体次级电子发射的各向异性,与激发电子的能量分布、态密度结构密切相关。降低入射电子能量,可以得到激发到表面共振态的次级电子发射。
  
  

参考书目
   Hachenberg and W. Brauer, Secondary Electron Emission From Solid, Y. L. Marton, ed., Advances in Electronics and Electron Physics,pp.413~499, Academic Press,New York, 1959.
  

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