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1)  AlN(110)
AlN(110)表面
2)  Cu(110) surface
Cu(110)表面
3)  GaN(110)
GaN(110)表面
4)  BN(110)
BN(110)表面
5)  TiO_2(110)surface
TIO_2(110)表面
6)  SnO_2(110) surface
SnO_2(110)表面
补充资料:aluminium nitride material AlN
分子式:
CAS号:

性质: 该材料有陶瓷型和薄膜型两种。氮化铝热导率高、绝缘性能好,电阻率高达4×106Ω·cm。热膨胀系数小(2.65~3.80)×10-6K-1,化学性能稳定,在1000℃时才与空气发生氧化。在真空中可稳定到1500℃。致密型氮化铝是抗水的,几乎不与浓无机酸发生反应。密度为3.26g/cm3,熔点2400℃,弹性模量为300~310GPa,抗弯强度为280~350MPa,莫氏硬度为8。A1N陶瓷用粉末冶金法制得。氮化铝薄膜用反应溅射法制得。A1N陶瓷片用于大功率半导体集成电路和大功率的厚膜电路,A1N薄膜用于薄膜器件的介质和耐磨、耐热、散热好的材料表面镀层。

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