1) microcosmic particle interference experiment
微观粒子干涉实验
1.
The method of simulating microcosmic particle interference experiment by MATLAB is introduced.
介绍了如何运用MATLAB实现微观粒子干涉实验的计算机仿真,给出了微观粒子干涉实验计算机仿真的数学模型、程序和结果
2) interference experiment
干涉实验
1.
In the interference experiments using soft X-ray laser for diagnosed high temperature and high dense plasmas,it is urgently necessary to have some semitransparent multilayer beam splitters with definite reflectivity and transmission as well as high quality surface figure.
在软X射线激光诊断高温高密度等离子体的干涉实验中 ,迫切需要既有一定反射率、又有一定透过率 ,同时具有很高面形精度的半反半透多层膜和高反射率多层膜组成的软X射线激光干涉仪 ,以实现对高温等离子体临界面附近电子密度的诊断 。
3) electrical two-slit interference experiment
电子双缝干涉实验
1.
Based on quantum mechanical two base experiments,electrical two-slit interference experiment and Stern-Gerlach experiment, two new concepts of quantum communication theory,quantum decoherence and quantum entanglement are derived, and the new activity was given to the base experiments.
从量子力学两个基础实验———电子双缝干涉实验、Stern -Gerlach实验出发 ,引出量子信息理论的两个新概念———量子退相干与量子纠缠。
5) experimental interferogram
实验干涉图
1.
Flow field of shock wave passing by right angle and wedge is analyzed using numerical method and numerical interference technique combining with experimental interferograms.
使用数值计算方法和数值干涉技术并结合实验干涉图片,分析了激波过拐角绕楔形物体运动的流场。
补充资料：杨氏干涉实验
1801年T.杨首先做了光的干涉现象的实验。双缝干涉实验是他做的最著名的实验。为便于理解，现以双孔干涉实验来说明。
实验装置如图1所示。光源S发出光波（源波），用一个屏遮住其波面，只让从屏上两个小孔H1和H2露出的波继续传播而发生干涉。
设S为单色点光源，光振荡的角频率为w；又设相距为b的两孔H1、H2到S的距离相等,则子波源H1和H2的初位相恒保持相同，记以嗞0。于是从H1和H2发出的球面子波可以写成如下复数表达式
式中λ为光波波长，r1和r2分别为接收面∏上某点P到H1和H2的距离。P点的合成场为W(P)=W1(r1)+W2(r2)；其模的二次方即为 P点的光强I(P)。当db时，在0点附近有
该式表明，P点的光强仅取决于P到两孔之间的距离之差│r2-r1│。在满足：
r2-r1＝nλ (n＝0,±1,±2,...)
的那些点处，干涉光强取极大值，为I=4(ɑ/d)2。在满足
的点处光强取极小值,为I＝0。光强为极大值或极小值的所有点的集合分别为亮条纹或暗条纹的中心。在接收面∏上条纹呈双曲线。光强沿x轴的分布(当x远小于d时)为
此函数曲线如图2所示。
杨最初的实验中,屏上开的是两条与x轴方向垂直的狭缝。这时接收面∏上的干涉条纹不是双曲线而是与x轴垂直的直条纹。
实验装置如图1所示。光源S发出光波（源波），用一个屏遮住其波面，只让从屏上两个小孔H1和H2露出的波继续传播而发生干涉。
设S为单色点光源，光振荡的角频率为w；又设相距为b的两孔H1、H2到S的距离相等,则子波源H1和H2的初位相恒保持相同，记以嗞0。于是从H1和H2发出的球面子波可以写成如下复数表达式
式中λ为光波波长，r1和r2分别为接收面∏上某点P到H1和H2的距离。P点的合成场为W(P)=W1(r1)+W2(r2)；其模的二次方即为 P点的光强I(P)。当db时，在0点附近有
该式表明，P点的光强仅取决于P到两孔之间的距离之差│r2-r1│。在满足：
r2-r1＝nλ (n＝0,±1,±2,...)
的那些点处，干涉光强取极大值，为I=4(ɑ/d)2。在满足
的点处光强取极小值,为I＝0。光强为极大值或极小值的所有点的集合分别为亮条纹或暗条纹的中心。在接收面∏上条纹呈双曲线。光强沿x轴的分布(当x远小于d时)为
此函数曲线如图2所示。
杨最初的实验中,屏上开的是两条与x轴方向垂直的狭缝。这时接收面∏上的干涉条纹不是双曲线而是与x轴垂直的直条纹。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条