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1)  capacitance of PN junction
PN结电容
2)  PN junction leakage current
PN结漏电
3)  resistance of PN junction
PN结电阻
4)  electricbreakdown of P-N junction
PN结电击穿
5)  PN junction electric field
PN结边界电场
1.
A novel analytic model on the relationship about the surface voltage and the PN junction electric field with the ion dose in the drift of gate off MOS is presented.
本文提出了偏置栅MOS管漂移区离子注入剂量对表面电压和PN结边界电场两者关系的一种新的分析模型 ,借助数学推导得到该模型的计算方程 ,通过仿真曲线图能清楚地看到它们之间的变化关系 ,同时说明提高偏置栅MOS管击穿电压的方
6)  P-N junction photodiode
PN结光电二极管
补充资料:pn结电容(p-njunctioncapacitance)
pn结电容(p-njunctioncapacitance)

pn结具有电容特性。pn结电容包括势垒电容和扩散电容两部分。pn结的耗尽层宽度随加在pn结上的电压而改变。当pn结加正向偏压时,势垒区宽度变窄、空间电荷数量减少,相当于一部分电子和空穴“存入”势垒区。正向偏压减小时,势垒区宽度增加,空间电荷数量增多,这相当于一部分电子和空穴的“取出”。对于加反向偏压情况,可作类似分析。pn结的势垒宽度随外加电压改变时,势垒区中电荷也随外加电压而改变,这和电容器充放电作用相似。这种pn结的电容效应称势垒电容。另外,在正偏结中,有少数非平衡载流子分别注入n区和p区的一个扩散长度范围内(称做扩散区),其密度随正向电压的增加而增加,即在两个扩散区内储存的少数非平衡载流子的数目随pn结的正向电压而变化。这种由于扩散区的电荷数量随外加电压的变化所产生的电容效应,称为pn结的扩散电容。pn结电容是可变电容。势垒电容和扩散电容都随外加电压而变化。pn结电容使电压频率增高时,整流特性变差,是影响由pn结制成器件高频使用的重要因素。利用pn结电容随外加电压非线性变化特性,可制成变容二极管,在微波信号的产生和放大等许多领域得到广泛的应用。

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