1) RF-PECVD
射频-等离子体化学汽相沉积
2) radio frequency
射频
1.
The application of radio frequency nRF905 in flue gas desulfurization;
射频芯片nRF905在烟气脱硫系统中的应用
2.
The clinic observation of epistaxis treated with radio frequency and sinus endoscopy;
鼻内镜下射频治疗鼻出血的临床观察
3.
Radio frequency for refractory epistaxis of small vessel expansion on nasal septum;
射频治疗鼻中隔小血管扩张性顽固性鼻出血
3) RF
射频
1.
Study on the Parameter of ZnO Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering;
射频溅射法生长ZnO薄膜的参数研究
2.
Research on the Dielectric Constant of Frozen Spanish Mackerel and RF Defrosting;
冷冻鲅鱼的介电常数与射频解冻效果研究
3.
The integrated method of smart-home based on RF;
射频模式下家庭自动化集成方案
4) Radio-frequency
射频
1.
Radio-frequency influences on Cu film deposited by unbalanced magnetron sputtering;
射频对非平衡磁控溅射沉积Cu膜的影响
2.
Radio-frequency and stryker instruments under nasal endoscopy for 68 cases of adenoidal hypertrophy;
鼻内镜下射频结合电动切削器治疗儿童腺样体肥大68例
3.
Design of slow-paced radio-frequency thermo-therapeutic system for liver cancer;
射频热缓释肝癌热疗计划系统的研制
5) Radiofrequency
射频
1.
Influence on immunology of the rats: by combinative treatment of dendritic cells and radiofrequency ablation to the solid tumor;
致敏树突状细胞联合射频消融治疗对荷瘤大鼠免疫机能的影响
2.
Treatment of face acne vulgaris with nonablative radiofrequency;
射频治疗面部寻常性痤疮
3.
Clinical Application of Radiofrequency Thermocoagulation and Target Ablation in Treatment of Lumbar Intervertebral Disc Protrusion;
射频靶点热凝术治疗腰椎间盘突出症的临床应用
6) radiofrequency ablation
射频
1.
Study on the expression of survivin、rpr in leiomyoma of uterus by means of radiofrequency ablation;
射频治疗子宫平滑肌瘤组织中survivin、rpr表达及其意义的研究
2.
Objective:To study the value of ultrasonography guiding multiple electrodes radiofrequency ablation(RFA) for hepatic carcinoma.
目的 :探讨超声引导下多电极射频疗法对肝癌治疗的临床意义。
3.
Objective: To investigate the expression of survivin、rpr、c-fos and the apoptosis in leiomyoma of uterus by means of radiofrequency ablation and the relationship between clinical sing and their expression.
目的:射频治疗子宫平滑肌瘤组织中survivin、rpr、c-fos的表达和原位凋亡检测及其意义研究。
参考词条
补充资料：等离子体增强化学气相沉积
等离子体增强化学气相沉积
plasma enhanced chemical vapor deposition
等离子体增强化学气相沉积plasma enhancedChemieal vapor deposition使原料气体在电场中成为等离子体状态，产生化学上非常活泼的激发态分子、原子、离子和原子团等，促进化学反应，在衬底表面上形成薄膜的技术。简称PECVD。它的基本原理是利用等离子体中电子的动能促进化学反应。这一原理在一个世纪前就已被发现，20世纪60年代才开始用于制备薄膜。 在电场的作用下，气体分子成为电离状态，通过正、负电荷之间的激烈作用形成等离子体。在低压容器中，电子由于平均自由程大而得以加速，与中性分子或原子发生碰撞。其中，弹性碰撞使气体温度升高，而非弹性碰撞则使原子和分子激发、离解及电离化，产生化学活性的离子和原子团，促进化学反应。 PECVD淀积主要包括4个过程:①电子与反应气体在等离子体中反应生成离子及自由基;②反应物质从等离子体中输运到衬底表面;③离子、自由基与衬底反应或在其表面吸附;④反应物质或反应产物在衬底上排列成薄膜。后两个过程是决定薄膜质量的主要因素。 PECVD设备主要包括放电系统、抽气系统、反应室及气体导入系统。放电系统用于产生等离子体，一般采用高频电源，频率为50kHz至2.45GHz。高频功率的祸合方式可大致分为电感祸合和电容祸合两类。 PECVD的优点是可在较低温度下成膜，热损失少，从而抑制了与衬底的反应，并可在非耐热衬底上成膜。缺点是衬底表面及薄膜易因高能粒子的轰击而造成损伤，产生缺陷。 PECVD法已广泛应用于制备非晶硅膜、氮化硅、氧化膜等钝化膜‘它也是制备高分子薄膜的重要方法，这时又被称为等离子体聚合法。(章熙康)
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