1) Dual Pattern Etching
双重图形蚀刻
2) pattern etching
图形刻蚀
1.
Plasma pattern etching of cubicβ- Si C single crystalline thin films via atmospheric pressure chemical vapor deposition has been studied systematically in CF4+ O2 mixtures.
采用等离子体刻蚀工艺 ,以四氟化碳 ( CF4 )和氧气 ( O2 )的混合气体作为刻蚀气体 ,对常压化学气相淀积工艺制备的β- Si C单晶薄膜进行了系统的图形刻蚀研究。
3) etched pattern
蚀刻图形
4) Dual-patterning Exposure
双重图形光刻
5) etch figures(s)
蚀刻图
6) linear etching,line etching
线形蚀刻
补充资料：光蚀刻
光蚀刻
photoetching
简称光刻。利用照相手段制作抗蚀膜像，用来保护表面，在金属、塑料等上面，借助腐蚀剂进行腐蚀的方法。应用于制作印片或电器的线路板等。
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参考词条