1) Excimer laser annealing
受激准分子激光退火(激光再结晶)
2) ArF excimer laser annealing
ArF准分子激光退火
4) ELA
准分子激光晶化
1.
,the metal-induced lateral crystallization(MILC),excimer laser annealing(ELA) and inductively coupled plasma CVD(ICP-CVD),with their advantages and disadvantages compared wi.
本文系统介绍了低温多晶硅薄膜的三种制备方法—金属诱导横向晶化法、准分子激光晶化法和电感耦合等离子体化学气相沉积法的原理和研究进展,比较了它们之间各自的优缺点,最后对该领域的发展前景进行了展望。
2.
The principles and progress of LTPS preparation methods including metal induced lateral crystallization(MILC),excimer laser annealing(ELA),catalytic chemical vapor deposition(Cat-CVD) and inductively coupled plasma chemical vapor deposition(ICP-CVD) were systematically introduced.
系统介绍了金属诱导横向晶化法、准分子激光晶化法、触媒化学气相沉积法(Cat-CVD)以及电感耦合等离子体化学气相沉积法(ICP-CVD)制备低温多晶硅薄膜的原理及进展。
6) cadmium-mercury excimer laser
镉-汞受激准分子激光器
补充资料：准分子激光器
分子式：
CAS号：
性质：用激基复合物为工作介质时得到的脉冲式相干辐射光源。更恰当的名称应当是激基复合物激光器。典型的激光介质有稀有气体的卤化物(如Xe-Cl，KrF等)。发射波长在紫外区。
CAS号：
性质：用激基复合物为工作介质时得到的脉冲式相干辐射光源。更恰当的名称应当是激基复合物激光器。典型的激光介质有稀有气体的卤化物(如Xe-Cl，KrF等)。发射波长在紫外区。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条