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1)  IEGT
注入增强门极晶体管
1.
The Structure and Electrical Characteristics of IEGT;
注入增强门极晶体管的结构与电特性
2)  injection enhanced gate transistor(IEGT)
注入增强栅晶体管
3)  IEGT(lnjection enhanced gate transistor)
入增强栅晶体管
4)  IEGT(injection enhanced gate transistor)
注入增强栅晶体管调速装置
5)  ion implanted base transistor
离子注入基极晶体管
6)  chare injection transistor
电荷注入晶体管
1.
To visualize the relationship between the collector current and source-drain voltage in the SiGe/Si chare injection transistor (CHINT), the mathematical model of this device is set up by using the tunnel model of two-dimensional hole gas(2DHG)in SiGe/Si quantum well.
为了能直观地体现SiGe/Si电荷注入晶体管的收集极电流与漏源电压的关系,利用输入端SiGe/Si量子阱中二维空穴气的隧道模型,建立起此类器件的输入输出数学模型,并利用MATLAB软件对所建模型进行了模拟,结果显示在漏源电压约为1。
补充资料:晶体管-晶体管逻辑电路
晶体管-晶体管逻辑电路
transistor-transistor logic
    集成电路输入级和输出级全采用晶体管组成的单元门电路。简称TTL电路。它是将二极管-晶体管逻辑电路(DTL)中的二极管,改为使用多发射极晶体管而构成。TTL电路于1962年研制成功,基本门电路的结构和元件参数,经历了3次大的改进。同DTL电路相比,TTL电路速度显著提高,功耗大为降低。仅第一代TTL电路产品,就使开关速度比DTL电路提高5~10倍。采用肖特基二极管的第三代TTL电路,开关时间可缩短到3~5纳秒。绝大部分双极型集成电路,都是TTL电路产品。
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参考词条