1) silicon wafer surface micro-condition
硅片表面微观状态
2) Micro-surface condition
微观表面状态
3) topographical microstructure
表面微观形态
4) microcosmic surface shape
微观表面形态
5) Surface state of substrate
基片表面状态
6) silicon wafer surface
硅片表面
1.
TheGFAAS results indicate that Cu contamination on silicon surface can be reduced remarkably whenadding chelating agent, which could not only react with cupric ion in solution but also compete withit on adsorption of silicon wafer surface.
研究了溶液中的铜离子在硅片表面的沉积情况,尝试采用几种螯合剂来减少铜在硅片表面的沉积。
补充资料：微观状态数
体系中所有与宏观状态相容的量子态的总数。处在一定已知宏观约束下的体系的平衡态，可用一组独立的宏观参量描述。这一组宏观参量的特定数值确定一个宏观状态。例如，孤立是一种约束，对全国粒子体系，其宏观状态可用总粒子数N、能量E、体积 V描述。体系只能处在与宏观状态相容的那些量子态上，这样的量子态称为体系的可及微观状态，其总数目称为体系的可及微观状态数，用Ω 表示。
独立子体系的Ω 可通过能级分布进行求算。考虑全同粒子组成的孤立体系时，其宏观状态用N、E、 V描述。令εi(i=1,2,3,...)为单粒子的可及微观状态的能量，它的简并度为ωi，能量为εi的各状态上的粒子数为ni,它们必须同时满足下列守恒条件：
n1,n2,...,ni,...称为与宏观状态(N,E,V)相容的能级分布。一个宏观状态可有很多种能级分布，而每种能级分布又拥有大量的微观状态。所有能级分布中微观状态数最多的分布称为最可几分布，当N→∞时,最可几分布所拥有的微观状态数趋于体系的可及微观状态数Ω ：
式中ni是能级εi上最可几分布的粒子数，它服从麦克斯韦－玻耳兹曼分布律。
独立子体系的Ω 可通过能级分布进行求算。考虑全同粒子组成的孤立体系时，其宏观状态用N、E、 V描述。令εi(i=1,2,3,...)为单粒子的可及微观状态的能量，它的简并度为ωi，能量为εi的各状态上的粒子数为ni,它们必须同时满足下列守恒条件：
n1,n2,...,ni,...称为与宏观状态(N,E,V)相容的能级分布。一个宏观状态可有很多种能级分布，而每种能级分布又拥有大量的微观状态。所有能级分布中微观状态数最多的分布称为最可几分布，当N→∞时,最可几分布所拥有的微观状态数趋于体系的可及微观状态数Ω ：
式中ni是能级εi上最可几分布的粒子数，它服从麦克斯韦－玻耳兹曼分布律。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条