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1)  cryogenic implantation
低温离子注入
2)  low energy ion implantation
低能离子注入
1.
Modification of poly(pyrrolyl methine) thin film by low energy ion implantation;
低能离子注入对聚吡咯甲烯的改性
2.
Three methods are introduced including Tl + and Ir + doping, MBE growth of P +layer and B +, In + low energy ion implantation.
讨论了将PtSi红外探测器截止波长延长的理论基础 ,并介绍了采用在衬底掺入Tl+和Ir+,MBE生长P+层以及低能离子注入B+,In+来延长PtSi红外探测器截止波长的三种方
3)  Low energy N+ ions
低能氮离子注入
4)  Low energy iron ion-beam implant
低能铁离子注入
5)  low-energy ion implantation
低能离子注入
1.
A new method of genetic breeding by the low-energy ion implantation induced exogenous DNA macromolecule genetic transformation had been widely used in improvement of plants and microorganisms,and had achieved remarkable results.
低能离子注入介导外源DNA大分子转化作为一种新的遗传育种方法,被广泛应用于植物和微生物的品质改良及种质创新,并取得显著成果。
6)  method of low energy ion injection
低能离子注入法
补充资料:离子注入(ionimplantation)
离子注入(ionimplantation)

用离子加速器将各种离子注入半导体材料,从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术,称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用,是半导体器件工艺的最主要技术之一。

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参考词条