2) HEMT
高电子迁移率管
3) electron mobility
电子迁移率
1.
Through UV-Vis, XRD, SEM and AFM characterizations, the difference in electron mobility between 1 and 2 can be.
利用空间电荷限制电流(SCLC)法测试了二种氟代苝酰亚胺的电子迁移率,一种是N,N'-二(五氟代苯基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(1),另一种是N,N'-二(1,1-二氢十五氟代辛基)-3,4,9,10-苝四羧基二酰亚胺(2)。
2.
An electron mobility of 6×10~4 cm~2/Vs with a carrier density of 2.
结果表明,电离杂质散射控制所有样品在低温时的电子输运过程,而高温时材料的电子迁移率主要由极性光学声子的散射过程决定;C的沾污对石墨舟中生长的InAs0。
3.
An analytical model of electron mobility for strained-silicon channel nMOSFETs is proposed in this paper.
提出了一个应变硅沟道电子迁移率解析模型。
5) HEMT
高电子迁移率晶体管
1.
Ohmic Contact for InP-Based HEMTs;
磷化铟基高电子迁移率晶体管欧姆接触工艺
2.
Characteristics of AlGaN/GaN HEMTs Grown by Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy;
RF-MBE生长的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管特性(英文)
3.
With the development of communication technology,the gate length of HEMT becomes shorter and shorter,and the previous speed-field analytical formula can not accurately describe this change.
通过对现有的速度-场经验公式的计算机模拟仿真,发现其与实测的文献数据之间存在一定的误差,因而提出一种改进的速度-场经验公式,在线性电荷控制模型的基础上,考虑沟道长度调制效应,解析出一种新的高电子迁移率晶体管(HEMT)I-V模型。
6) HEMTs
高电子迁移率晶体管
1.
A New Method for InGaAs/InP Composite Channel HEMTs Simulation;
一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法(英文)
补充资料：高电子迁移率晶体管（highmobilitytransistor）
高电子迁移率晶体管（highmobilitytransistor）
利用异质结或调制掺杂结构中二维电子气高迁移率特性的场效应晶体管。其低温、低电场下的电子迁移率比通常高质量的体半导体的场效应晶体管高1000倍，可实现高速低噪音工作。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条