1) electron-beam lithography(EBL)
电子束曝光(EBL)
2) electron beam lithography
电子束曝光
1.
Research of figures with high aspect ratio made by electron beam lithography system;
利用电子束曝光系统制作高深宽比图形的研究
2.
Studies of energy dissipation distribution in low-energy electron beam lithography by Monte Carlo method;
Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律
5) electron beam direct-write exposure
电子束直写曝光
6) electron beam exposure machine
电子束曝光机
1.
The paper presents the constitution features and experimental results of deflection system of the DY-5 electron beam exposure machine.
本文将重点介绍ＤＹ－５型电子束曝光机的偏转系统的构成、特点及结果。
2.
In electron beam exposure machines the coincidence of three correspon-ding coordinate systems of stage movement, electro-magnetic deflection andmark is one of the important factors which affect pattern stitching accu-racy.
在电子束曝光机中，工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合，是影响图形拼接精度的重要因素之一。
3.
The wave trap is applied to measure the beam current in the electron beam exposure machine.
提出一种应用于电子束曝光机束流测量中的自动跟踪工频陷波器 ,给出电路结构 ,基于对其工作原理的分析 ,介绍了提高陷波器跟踪精度的设计要点及调试方
补充资料：Helio Fast Violet BN,EBL
分子式：C34H22Cl2N4O2
分子量：589.379
CAS号：暂无
性质：深绿光紫色粉状，色泽鲜艳，着色强度高，耐晒牢度好，耐热性及抗渗性优异。
制备方法：由N-乙基咔唑用混酸硝化、硫化钠还原，在三氯苯与四氯苯醌缩合，而后在对甲苯磺酰氯中闭环、氧化，再经过滤、干燥、粉碎等处理工序而制得产品。产品要求外观为深绿光紫色粉末，耐晒性7-8级，耐热性200℃，吸油量38%，耐酸性（5%HCl）与耐碱性（5%Na2CO3）均为5级，水渗性与油渗性均为5级，乙醇渗性4级，酯渗性4级，酮渗性3级，耐二甲苯3级。原料消耗（kg/t）N-乙基咔唑 1100四氯苯醌 870对甲苯磺酰氯 590
用途：适用于油漆、油墨及橡胶、塑料制品的着色，也可用于合成纤维原浆的着色。
分子量：589.379
CAS号：暂无
性质：深绿光紫色粉状，色泽鲜艳，着色强度高，耐晒牢度好，耐热性及抗渗性优异。
制备方法：由N-乙基咔唑用混酸硝化、硫化钠还原，在三氯苯与四氯苯醌缩合，而后在对甲苯磺酰氯中闭环、氧化，再经过滤、干燥、粉碎等处理工序而制得产品。产品要求外观为深绿光紫色粉末，耐晒性7-8级，耐热性200℃，吸油量38%，耐酸性（5%HCl）与耐碱性（5%Na2CO3）均为5级，水渗性与油渗性均为5级，乙醇渗性4级，酯渗性4级，酮渗性3级，耐二甲苯3级。原料消耗（kg/t）N-乙基咔唑 1100四氯苯醌 870对甲苯磺酰氯 590
用途：适用于油漆、油墨及橡胶、塑料制品的着色，也可用于合成纤维原浆的着色。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条