1) circular silicon membrane
圆形硅膜
1.
This paper researches the 〈100〉 mono-crystalline silicon to manufacture the proximal circular silicon membrane using anisotropic etching with EPW, because of the 〈100〉 mono-crystalline silicon corrosion rate aeolotropies in the EPW solutions, it is very difficult to realize the circular mono-crystalline silicon membrane under the circular mask.
研究了〈100〉单晶硅在EPW腐蚀液中制作近似圆形硅膜,在EPW腐蚀液中因〈100〉单晶硅腐蚀速率各向异性,在圆形掩膜下很难实现圆形单晶硅膜。
2) circular silicon diaphragm
圆形硅振动膜
3) circular membrane
圆形薄膜
1.
Analytical solution of the free vibration of circular membrane
圆形薄膜自由振动的理论解
4) Circular vibrating film
圆形振动膜
5) circular and annular membranes
环形(圆)薄膜
6) annular (circular)membranes
环(圆)形薄膜
补充资料：氮化硅膜
分子式：
CAS号：
性质： 硅氮化合物的薄膜。可用化学气相沉积和溅射法制备，通常采用等离子体化学气相沉积(PCVD)制备，沉积温度低于300℃。由于Si3N4具有高硬度(块体硬度HV l7.2GPa)和优良的化学稳定性，它是很受重视的耐磨抗蚀膜，常用作微电子技术电绝缘层。但因Si3N4膨胀系数低，当沉积在金属基材上时，产生较大的界面应力，对基体附着差。
CAS号：
性质： 硅氮化合物的薄膜。可用化学气相沉积和溅射法制备，通常采用等离子体化学气相沉积(PCVD)制备，沉积温度低于300℃。由于Si3N4具有高硬度(块体硬度HV l7.2GPa)和优良的化学稳定性，它是很受重视的耐磨抗蚀膜，常用作微电子技术电绝缘层。但因Si3N4膨胀系数低，当沉积在金属基材上时，产生较大的界面应力，对基体附着差。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条