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1)  layer-peeling technique
层剥技术
2)  delayer technology
剥层技术
1.
And an example was provided to show the important role of delayer technology in failure analysis for integrated circuit.
本文介绍了失效分析中去钝化层、金属化层和层间介质等的各种方法,包括湿法腐蚀、反应离子刻蚀和FIB刻蚀等方法,结合图例进行剥层前后对比分析,并通过实例说明剥层技术在集成电路失效分析中的重要作用。
3)  epitaxial lift-off
外延层剥离技术
1.
GaAs thin film solar cells prepared by epitaxial lift-off;
外延层剥离技术(ELO)制备GaAs薄膜太阳电池
4)  Technology encircle peel tree
环剥技术
5)  lift-off technology
剥离技术
6)  back-stripping technology
回剥技术
补充资料:剥层腐蚀
分子式:
CAS号:

性质:金属材料晶间腐蚀的一种类型。腐蚀优先沿晶界向内部发展,致使晶界丧失力学性能,金属表层沿晶界发生逐层剥落。主要发生于铝合金中,是航空用铝合金腐蚀失效的主要类型,可采用表面保护涂层的方法进行防护。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条