1) EDA
电子设计辅助
1.
This paper put forward the frame of PDM and EDA integration and pointed out the main contents of PDM and EDA integration,as well as the key technologies in processing the integration such as data storage,the disposal of BOM files,secu-rity management had been studied profoundly.
提出了产品数据管理(PDM)与电子设计辅助(EDA)集成的主要框架;阐述了PDM与EDA集成的主要内容,并对数据存储、BOM文件处理以及安全管理等关键技术进行了深入研究;总结了PDM与EDA集成的主要实现步骤;通过实例描述了PDM与EDA集成的整个过程。
3) electronic
电子
1.
Development of an electronic optometer based on SCM;
单片机电子视力计的研制
2.
Clinical analysis on liposuction adopting electronic liposuction machine;
医用电子去脂机行抽脂术临床效果分析
3.
Research on the development of automobile electronic information industry ——based on the theory of industry growth;
基于产业成长理论的中国汽车电子信息产业发展研究
4) electron
电子
1.
Mixed proton-electron conductors for hydrogen permeation;
质子-电子混合导体透氢膜
2.
Study of ion catch technology of electron microscopy in virus detection of patient s excrement;
离子扑捉电子显微镜技术检测患者粪便中病毒的方法
3.
Teaching research on electric and electron speciality oriented art recruiting students;
面向文科招生的电气、电子专业教学研究
5) electrons
电子
1.
A comparison of ionizing radiation damage in CMOS devices from ~(60)Co Gamma rays,electrons and protons;
CMOS器件~(60)Coγ射线、电子和质子电离辐射损伤比较
2.
In order to study avalanche ionization mechanism, it is inevitable to deal with rates of electrons absorbing and losing energy.
研究雪崩破坏机理,必然涉及到电子吸收激光能量的速率和电子损耗能量的速率,这些都与电子和声子的散射有密切的联系。
3.
N-channel MOS transistors from CC4007,CC4011 and LC54HC04RH device were irradiated with different dose rate Co-60 gamma rays,lower energy protons(less then 9MeV)and 1MeV electrons.
利用不同剂量率γ射线、低能 (小于 9MeV)质子和 1MeV电子对CC40 0 7RH、CC40 11、LC5 4HC0 4RHNMOS FET进行了辐照实验 ,结果表明 ,在 +5V偏置条件下 ,9MeV以下质子造成的损伤总是小于60 Co,而且质子能量越低 ,损伤越小 ;对于同等的吸收剂量 ,1MeV电子和60 Co造成的损伤差别不大 ;在高剂量率γ射线辐射下 ,氧化物陷阱电荷是导致器件失效的主要原因 ,在接近空间低剂量率辐射环境下 ,LC5 4HC0 4RH电路失效的主要原因是辐射感生界面态陷阱电荷 ,而CC40 0 7RH器件则是氧化物陷阱电荷 。
6) electronics
电子
1.
Through introducing the TCA substitute technical and solvent in mental,electronics and precision cleaning industry,summing up some of the characteristics of alternative solvents,this article introduces some examples of alternative technologies on the process characteristics and its application,while for domestic enterprises to implement TCA offers eliminated the choice of alternative principles.
通过介绍金属清洗、电子清洗和精密清洗领域的α-三氯乙烷(TCA)替代溶剂及其相关替代的技术,总结了部分替代溶剂的特点,并以实例介绍了部分替代技术的工艺特点及其应用,同时为国内相关企业实施TCA淘汰提供了TCA替代品的选择原则。
2.
This article summarizes the development trend and direction of the traffic electronics.
概括介绍了交通电子的发展动向及未来趋势。
3.
At the base of studying cultivating model of the same talents in other countries,we raised the construction and imagination of the practice teaching system of electronics of our higher vocational school.
为了实现从制造业大国向制造业强国的转变,中国急需大量的高级技能型人才,通过对国外同类人才的培养模式的研究,初步提出了我国高等职业学校电子专业实践教学体系的构建与设想。
参考词条
补充资料：CATIA在计算机辅助造型设计中的应用
在科学技术高速发展的今天，计算机已经由高速的运算工具演变为产品设计的得力助手，在产品制造业中广泛应用，其相应的设计软件也应运而生。由法国达索（Dassault Systemes）公司推出的CATIA，是世界上主流的CAD/CAE/CAM 一体化软件。本文阐述了利用CATIA软件进行造型的方法和理论基础，并以某车型车身的一部分造型设计为例，总结一些应用该软件的经验和技巧。一、概述 随着科学技术的突飞猛进，人类有史以来第一次用上了辅助脑力劳动的工具——计算机，在其迅速扩大的应用中，计算机不单纯是一种高效的运算工具，而且已经成为人们进行产品设计的得力助手。在产品的造型设计领域，特别是逆向设计的模型重建方面，已经有比较多的CAD/CAM软件出现，如Solidworks、I-deas、GRADE、Pro-ENGINEER、UG、STRIM100等等。由法国达索（Dassault Systemes）公司推出的CATIA软件也是其中重要的一种，其功能覆盖了产品设计的各个方面：CAD、CAE、CAM等，广泛应用于航天航空、汽车、造船以及电子产品等领域。下面着重研究的是此软件在产品造型的逆向设计中，对测量得到的点云数据的处理过程——怎样由离散的空间点数据通过一系列的计算过程设计得到产品的外形模型。 二、CATIA点云处理方法 在工业制造领域，CATIA软件是航空航天工业上市场占有率最高的CAD/CAM软件，现在也广泛应用于其他产业的产品设计制造过程中。针对本文的造型设计，则主要是应用了其中的数字曲面编辑器（Digitized Shape Editor）和自由造型（Freestyle）两个单元的功能。 1．数字曲面编辑器 此单元可以处理由测量仪器所取得的实体三维点数据（即点云数据），具有加载、编辑、重置点云、点云运算、绘制交线和曲线以及铺面和点云分析的功能，基本可以满足对点云的前期处理要求。 具体的步骤和过程是：首先将点云数据加载到编辑器，利用重置和运算功能对点云数据依据对准球（测量点云数据时预设的基准点）进行拼接，将单个的点云数据合并成一个整体；然后利用此单元的删除和过滤功能，选取将要处理的点云部分，在不失真的前提下将庞大的点云数据选定范围和过滤，仅留下需要的部分数据点；随后，利用绘制交线和曲线的功能在处理后的点云数据上建立特征曲线网格，可以根据需要调整网格的划分方向和疏密程度，这里得到的特征曲线网格是建立拟合曲面的基础；铺面功能可以在点云数据上建立三角网格并依此铺设曲面，可以较为直观地了解结构的形状。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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