1) proximity exposure
接近式曝光
1.
A x-y 2 dimension precision motion stage used in proximity exposure system was developed to meet the demand of manufacturing micro-optical elements by mask moving exposure technique.
为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台。
2.
The history and recent advances of this technology are reviewed, especially emphasis on important technical accomplishments and challenges in X ray sources, proximity exposure and all reflective projection lithography.
重点讨论了在Ｘ射线源、接近式曝光和全反射投影曝光等方面取得的成就与存在的问题。
3) near contact printer
接近式曝光机
4) proximity exposure method
接近式曝光法
5) proximity printer
接近式对准曝光器
补充资料：接近式光刻
分子式：
CAS号：
性质： 又称非接触式光刻。使涂敷在基片上的光敏材料，经受穿过与其接近但不接触的光学掩模版的光辐照曝光，从而复印出光学掩模版图形的方法。
CAS号：
性质： 又称非接触式光刻。使涂敷在基片上的光敏材料，经受穿过与其接近但不接触的光学掩模版的光辐照曝光，从而复印出光学掩模版图形的方法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条