1) Stereo Photolithography
立体光刻成型
2) stereolithigraphy
立体光刻造型法
3) stereolithography
立体光刻
1.
Among rapid prototyping processes, stereolithography is one of the most used methods with higher molding precision.
立体光刻工艺是目前快速成型技术领域中研究得最多、技术上最为成熟、成型的零件精度最高的方法。
2.
In this paper, we introduced the principles of stereolithography process.
介绍了立体光刻技术制造模型的基本原理，并对用于立体光刻的光聚合材料以及当前发展趋势进行了讨论。
4) Stereo Lithography
立体光刻
1.
This process named “IH Process(Integrated Harden Polymer Stereo Lithography)”is a technique for real three dimensional(3D)structure with high aspect ration,and suitable for both polymer and metals.
介绍了微机械加工中的一项崭新技术——ＩＨ工艺，即集成聚合物固化立体光刻。
5) microstereolithography
微立体光刻
1.
Development of microstereolithography both domestic and abroad is summarized.
综述了国内外最近几年微立体光刻技术的研究进展。
6) stereolithograghy
光固化立体成型
1.
This paper introduces the stereolithograghy from these fol-lowing aspects:working principle,stereolithograghy apparatus and is-sues of accuracy.
论述光固化立体成型的工艺原理、系统组成和影响原型精度的各种因素及其改善途径,介绍了光固化立体成型的发展现状与应用前
补充资料：负性光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条