1) stereo lithography (STL)
立体光刻(STL)文件
2) stereolithography (STL)
立体光造型(STL)
3) STL files
STL文件
1.
Currently,some researches have been carried on to the repair of the errors in STL files,but these research can t carry a whole description on the errors.
目前,对STL文件错误的修复已经进行了一些研究,但这些研究还不能精确实现错误的整体描述,针对这个问题,构造了错误广义表,整体描述了STL文件中的错误,简化了修复过程,并开发了专用的STL文件修复工具。
2.
The intersection errors of STL files is introduced,and a completed and efficient algorithm for checking these intersection errors has been presented,which improves the stability and practicability of the software systems that employ STL files as interfaces.
介绍了STL文件常见错误中较难识别的三角形内插错误类型,提出了对此类错误完备且高效的检查算法,提高了以STL文件为接口的表面三角形网格模型软件系统的稳定性和实用性。
3.
STL files are widely used in many needing 3D models fields.
为了修复使用STL文件时产生的一些错误,首先根据错误的特点进行分类,以边的检查作为STL文件错误检查的基础,通过建立错误面片、边和顶点数组来实现错误记录,采用错误描述图来构造错误元素的拓扑关系考虑到不同错误的特点,建立了合并顶点→空洞修复→裂缝修复→删除多余→重叠修复→错误刷新的基本修复步骤开发了专用的STL文件修复工具,并通过实例验证了该算
4) STL file
STL文件
1.
The adaptive cartesian grid generation method based on STL file;
基于STL文件的笛卡尔网格生成方法研究
2.
Identification of three-dimensional CAE model based on STL files;
基于STL文件的空间CAE模型自动识别
3.
Research Into the Generation of STL Files in Reverse Engineering;
逆向工程中STL文件的生成方法研究
5) stereolithography
立体光刻
1.
Among rapid prototyping processes, stereolithography is one of the most used methods with higher molding precision.
立体光刻工艺是目前快速成型技术领域中研究得最多、技术上最为成熟、成型的零件精度最高的方法。
2.
In this paper, we introduced the principles of stereolithography process.
介绍了立体光刻技术制造模型的基本原理，并对用于立体光刻的光聚合材料以及当前发展趋势进行了讨论。
6) Stereo Lithography
立体光刻
1.
This process named “IH Process(Integrated Harden Polymer Stereo Lithography)”is a technique for real three dimensional(3D)structure with high aspect ration,and suitable for both polymer and metals.
介绍了微机械加工中的一项崭新技术——ＩＨ工艺，即集成聚合物固化立体光刻。
补充资料：负性光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
CAS号：
性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条