1) resist process
抗蚀剂工艺
2) dry film photo processing
干膜抗蚀剂光刻工艺
3) process inhibitor
工艺缓蚀剂
4) double photoresist
双光致抗蚀(工艺)
5) photoresist process
光致抗蚀工艺
6) etching process
腐蚀工艺
1.
Study on the etching process of aluminum foil for electrolytic capacitor;
电解电容器用铝箔腐蚀工艺研究
补充资料：X射线抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：采用软X射线（波长0.4～5nm）作为曝光源的抗蚀剂。由于X射线波长较紫外波长短两个数量级，几乎没有衍射的干扰，而且因其能量比电子束小得多，可以获得高分辨率，X射线对尘埃的透过性好，曝光工艺的缺陷率就低。所有的电子束抗蚀剂均可作X射线抗蚀剂。
CAS号：
性质：采用软X射线（波长0.4～5nm）作为曝光源的抗蚀剂。由于X射线波长较紫外波长短两个数量级，几乎没有衍射的干扰，而且因其能量比电子束小得多，可以获得高分辨率，X射线对尘埃的透过性好，曝光工艺的缺陷率就低。所有的电子束抗蚀剂均可作X射线抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条