1) salt-tolerant wheat
耐盐小麦
1.
Primary agronomic properties and breeding process of new lines of salt-tolerant wheat in Xinjiang;
新疆耐盐小麦新品系选育及其主要性状
2.
The test of regional comparison had been arranged by Seed Management Department of Xinjiang province in 2000 - 2002 years to offer the scientific basis of new varieties of salt-tolerant wheat in Xinjiang.
为新疆耐盐新品种的审定与推广提供科学依据 ,自治区种子管理站在 2 0 0 0——2 0 0 2年布置了耐盐小麦的区域品比试验。
2) salt-tolerant and high-yield wheat
耐盐丰产小麦
3) calli of wheat salt tolerant cell lines
小麦耐盐系愈伤组织
4) salt tolerant
耐盐
1.
HAL1 gene is an important salt tolerant gene in yest.
HAL1基因是酵母中重要的耐盐基因。
2.
To understand the molecular basis of salt-stress response and isolation the key salt tolerant gene , the sal.
日益严重的土壤盐渍化使通过遗传工程手段提高植物的耐盐性成为未来环境和农业发展需要迫切优先解决的问题。
5) salt tolerance
耐盐
1.
Evaluation of salt tolerance of 9 cultivars of Lolium spp.in germination and seedling stage;
黑麦草属9个品种萌发及苗期耐盐性研究
2.
The Molecular Detection and Salt Tolerance of the Offspring of Maize Transformed BADH Gene;
转BADH基因玉米后代的分子检测及耐盐性分析
3.
The performance evaluation results showed that the plugging agent had heat resistance, salt tolerance, strong adsorption, and better selectivity.
对该堵水剂的性能评价表明,它具有耐温、耐盐、吸附性强、选择性好的特点。
6) salt resistance
耐盐
1.
Two surfactants with thermal stability and salt resistance properties were observed.
提出两种结构的表面活性剂 ,考察了它们的耐温耐盐性能。
2.
The amphoteric thickening agent with salt resistance was prepared by inverse emulsion polymerization of cationic monomer methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium chloride(DMC) and anion monomer sodium acrylate(SAA),at the presence of potassium persulfate as initiator,Span-60 and Tx-10 as emulsification system and nn -methylene bis-acrylamide as cross-linking agent.
以司班-60、TX-10为复配乳化体系,N,N-亚甲基双丙烯酰胺为交联剂,用过硫酸钾引发丙烯酸钠和甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DMC)进行反相乳液聚合,制备高耐盐的涂料印花增稠剂。
补充资料：光敏耐腐蚀耐电镀印料
分子式：
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条