1) Sputtering cleaning
溅射清洗
2) jet cleaning
喷射清洗
1.
Some methods to clean pH electrode are introduced,such as ultrasonic cleaning,mechanical cleaning,water jet cleaning,chemical solution jet cleaning,compressed air jet cleaning,composite cleaning,manual cleaning,and so on.
介绍了超声波清洗、机械刷洗、水喷射清洗、化学溶液喷射清洗、压缩空气喷射清洗、复合清洗、人工清洗等 pH电极清洗方法 ,并给出电极内部陶瓷砂芯的清洗方法。
4) water jet cleaning
水射流清洗
1.
Chemical cleaning on shell side and high pressure water jet cleaning and anti-corrosion technology on tube side in air compressor middle coolers in PTA unit were introduced.
介绍PTA装置空气压缩机4台中间冷却器壳程采用化学清洗,管程采用高压水射流清洗及防腐工艺。
5) jet cleaner
喷射清洗机
6) scavenging ejector
清洗喷射泵
补充资料：磁控溅射
分子式：
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条