1) high k dielectric film
高k薄膜
2) High-k dielectric films
高k电介质薄膜
1.
research of High-k dielectric films for MOS gate dielectric applications;b.
本文第一部分以溅射沉积SiO_xN_y、TiO_2等高k电介质薄膜为研究主题,研究了溅射工艺对薄膜成分、结构的影响;并以MOS电容栅介质为应用背景,对薄膜电学性能进行了讨论。
3) K(TCNQ) thin film
K(TCNQ)薄膜
4) low-k film
low-k薄膜
6) K(Ta,Nb)O_3 thin film
K(Ta,Nb)O_3薄膜
补充资料:冲击高电压测量(见高电压测量)
冲击高电压测量(见高电压测量)
measurement of high impulse voltages
ch。门引才g。。dion丫日cel}o口g冲击高电压测量(rneasurement ofhighimpulsevoltages)见高电压测量。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条