1) Hollow cathode depostition (HCD)
空心阴极离子镀(HCD)
2) hollow cathode ion-plating
空心阴极离子镀
1.
TiN film are made by means of multi-arc ion plating,hollow cathode ion-plating and ion beam assist multi-arc ion plating respectively for study its surface morphology and properties.
分别采用多弧镀、空心阴极离子镀及电子束强化多弧镀的方法在高速钢表面制备TiN薄膜,对其进行表面形貌及性能的研究。
3) hollow cathode discharge(HCD)
空心阴极放电(HCD)
4) HCD ion plating
HCD离子镀
5) HCD 1 hollow cathode discharge source
HCD-1型空心阴极光源
6) hollow cathode discharge plasma
空心阴极等离子
1.
The Hollow Cathode Discharge Plasma Sintering of Aluminium Nitride Ceramic;
空心阴极等离子烧结氮化铝陶瓷
补充资料：多元素空心阴极灯
分子式：
CAS号：
性质：在同一支灯中用几种金属制成阴极，同时发射几种元素特征谱线的锐线光源。可用合金、金属间化合物或将多种金属粉末按一定比例混合，并压制和烧结，作成阴极。最多可达7种元素，如Al，Ca，Cu，Fe，Mg，Si，Zn灯。避免每测一种元素换一个灯，但发射强度低于单元素灯。如果几种金属组合不当，将产生光谱干扰。
CAS号：
性质：在同一支灯中用几种金属制成阴极，同时发射几种元素特征谱线的锐线光源。可用合金、金属间化合物或将多种金属粉末按一定比例混合，并压制和烧结，作成阴极。最多可达7种元素，如Al，Ca，Cu，Fe，Mg，Si，Zn灯。避免每测一种元素换一个灯，但发射强度低于单元素灯。如果几种金属组合不当，将产生光谱干扰。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条