1) exposed area
曝光面积
1.
By using two existent vertical correct magnets with horizontal field less than 100 Gauss, the exposed area of the Xray lithography wafer increases from 3 5mm to 14mm and no distortion occurs in the closed orbit out of the two magnets.
根据以水平磁场控制束团垂直闭轨和垂直发散角 ,设法增加光刻基片曝光面积的思想 ,对合肥同步辐射光源进行分析 ,提出了适用方案 。
2) exposure
曝光
1.
Design and application of exposure remoter of mobile X-ray machine;
移动式X线机曝光控制遥控器的设计与应用
2.
A study of exposure feature of focal plane steel shutter;
焦平面钢片快门曝光特性研究
3) Exposal
曝光
1.
Well-balanced negative can be obtained by right exposal and development,by which a picture with detailed shadow,rich gradution,and well balanced density can be produced.
正确的曝光和显影可以得到正常的底片,影纹清晰,层次丰富,密度适中,反差正常,可以制作出满意的照片。
2.
To explore an ergonomic lighting level in local environment of armored car,subjects are requested to judge the direction of targets under low lighting,after accepting three kinds of compelling exposal,and the reaction time is recorded.
为了研究装甲车辆内局部环境照明的视觉工效问题,受试者接受三种强度曝光,而后在低照度水平下判别视标方向,记录正确判别反应时。
4) Lithography
曝光
1.
The principle of ion beam lithography technology and its features are described.
论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及取得的一些新结果。
5) exposure news
“曝光”
6) controllable exposure
可控曝光
参考词条
补充资料：包围式曝光
包围式曝光（bracketing）是相机的一种高级功能。包围式曝光就是当你按下快门时，相机不是拍摄一张，而是以不同的曝光组合连续拍摄多张，从而保证总能有一张符合摄影者的曝光意图。使用包围式曝光需要先设定为包围曝光模式，拍摄时象平常一样拍摄就行了。包围式曝光一般使用于静止或慢速移动的拍摄对象，因为要连续拍摄多张，很难捕捉动体的最佳拍摄时机。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。