1) high density plasma
高密度等离子体
1.
Modeling low pre s sure, high density plasma etching is hig hly significant for high density plasma etching processing research.
低气压、高密度等离子体刻蚀轮廓的数值研究对于研究高密度等离子体刻蚀工艺具有重要意义。
2) High density plasma sources
高密度等离子体源
3) high energy density plasma
高能量密度等离子体(HEDP)
1.
Surface treatment to the Ni3Al intermetallic compound was conducted by high energy density plasma and nanometer micro-crystalline layers were developed on the alloy surface.
利用高能量密度等离子体（HEDP）对金属间化合物Ni3Al进行了表面处理，在合金表面获得了纳米级微晶层。
4) Plasmoid of high densil
高密度等离子体团
5) high density plasma enhanced
高密度等离子体增强型
6) plasma density
等离子体密度
1.
The plasma density substantially affects the surface composition of the alloyed layer.
合理的等离子体密度范围为 5× 1 0 11～ 3× 1 0 12 cm-3 。
2.
The analysis included varied physical characteristics,such as electron temperature,plasma density and its distribution along the column,plasma noise and its effect on the total antenna noise,antenna length and its electrical conductivity with relation to the power of RF.
在该实验系统中,根据等离子体天线的典型实验参数条件,从理论上对该表面波等离子体天线的特性进行了分析,包括:等离子体的电子温度、等离子体密度及其沿等离子体柱的分布情况、等离子体噪声及其对天线噪声的影响,以及等离子体天线的实际长度和导电率与表面波驱动的射频功率的关系。
3.
The research indicates that the propagation time of EMP through plasma will be less than that through the same distance in vacuum when the plasma density is in the range of 0.
实验发现当等离子体密度在0。
补充资料：高密度离子交换树脂
分子式：
CAS号：
性质： 指采用特种合成工艺条件使所得的强碱性阴树脂。相对密度高出一般的商品阴树脂。此类树脂在工业上主要用于从矿浆中浮洗提炼铀酰阴离子。操作时，把高密度阴树脂放在一个特制的笼中，笼子在矿浆中上下运动，因而要求阴树脂具有高的密度和高的机械强度。
CAS号：
性质： 指采用特种合成工艺条件使所得的强碱性阴树脂。相对密度高出一般的商品阴树脂。此类树脂在工业上主要用于从矿浆中浮洗提炼铀酰阴离子。操作时，把高密度阴树脂放在一个特制的笼中，笼子在矿浆中上下运动，因而要求阴树脂具有高的密度和高的机械强度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条