1) infrared coat
红外膜
2) Infrared thin films
红外薄膜
3) Infrared antireflection coating
红外增透膜
1.
Preparation of infrared antireflection coating on PbMoO_4 substrateby using ion-assisted deposition technology;
离子束辅助沉积钼酸铅晶体表面红外增透膜
2.
Compared with the conventional thermal vapor deposition coating, the ion assisted deposition technology is particularly helpful for the infrared antireflection coating on PbMoO 4 wafer that requires higher coating quality and greater position accuracy of the center wavelength.
通过与常规的热蒸发工艺镀制的膜层相比较 ,证实了离子束辅助沉积技术有助于提高钼酸铅晶体表面红外增透膜的膜层品质及中心波长位置的精确度。
4) Infrared reflection film
红外反射膜
1.
These thin film materials are infrared reflection film, selection transmit film, protection film, transparent conduct film, photocatalysis materials and so on.
本文主要介绍了用于高效节能光源和器具中的主要薄膜材料, 它们为红外反射膜,选择性透射膜,保护膜,透射导电膜及光触媒材料等。
5) protective coatings
红外保护膜
1.
Amorphous diamond films deposited by filtered cathodic vacuum arc technology as infrared protective coatings;
过滤阴极真空电弧制备非晶金刚石红外保护膜
6) infrared cut coating
红外截止膜
补充资料：电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条