2) chemical vapor deposited(CVD) diamond film
化学气相沉积(CVD)金刚石膜
3) diamond films (DF)
金刚石沉积膜
4) diamond-like carbon films (DLC)
类金刚石沉积膜
6) film vapor deposition
薄膜气相沉积
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
CAS号:
性质:PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条