1) a-B/C:H film
硼碳膜
1.
Analysis of a-B/C∶H film deposited in HT-7 superconducting tokamak by XPS;
HT-7超导托卡马克第一壁硼碳膜的XPS分析
2) boron doped carbon thin film
掺硼碳薄膜
3) BCN thin films
硼碳氮薄膜
1.
Deposited BCN thin films were characterized by Fourier transform infrared spectroscopy(FTIR),Raman spectroscopy(RS).
56 MHz)磁控溅射法沉积硼碳氮薄膜,得到的硼碳氮薄膜可用红外,拉曼表征。
2.
The BCN thin films have been mainly synthesized by chemical vapor deposition (CVD).
近几年来，硼碳氮薄膜的制备和性能研究已逐步成为国际上薄膜研究的热点。
4) boron carbide thin films
碳化硼薄膜
1.
The results of XRD show that the crystallization of the boron carbide thin films meliorate gradually with increasing substrate temperature and crystalloid of the boron carbide thin films are got at more than 150 ℃ of the substrate temperature.
采用电子束蒸发技术制备碳化硼薄膜,利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的结构,测量了薄膜的X射线光电子能谱(XPS),并利用原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表面分析。
5) borocarbon film resistor
硼碳膜电阻器
6) B-C-N film
硼碳氮(B-C-N)薄膜
1.
The effects of processing parameters on deposition rate of the B-C-N film were studied using a nano-indenting device.
利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮(B-C-N)薄膜,通过改变靶功率、基体偏压、沉积温度和励磁线圈电流,在相同沉积时间内得到不同厚度的薄膜。
补充资料：高硼低碳高温合金
分子式：
CAS号：
性质：一种镍基铸造高温合金。硼含量为0.05％～0.2％，碳含量小于0.05％，不同于普通铸造镍基合金的硼为0.005％～0.03％和碳为0.1％～0.25％。高硼低碳高温合金在保持普通镍基铸造高温合金高温强度的同时，中温性能特别是塑性显著提高，如Mar-M200合金在980℃时具有很高的持久强度、蠕变强度和良好的塑性，但760℃的持久塑性几乎为零，而其改型的高硼低碳B-1950合金在保持Mar-M200合金980℃优越性能的同时，760℃的持久塑性可达2％～5％。主要用于制做发动机涡轮叶片和整体铸造涡轮转子。
CAS号：
性质：一种镍基铸造高温合金。硼含量为0.05％～0.2％，碳含量小于0.05％，不同于普通铸造镍基合金的硼为0.005％～0.03％和碳为0.1％～0.25％。高硼低碳高温合金在保持普通镍基铸造高温合金高温强度的同时，中温性能特别是塑性显著提高，如Mar-M200合金在980℃时具有很高的持久强度、蠕变强度和良好的塑性，但760℃的持久塑性几乎为零，而其改型的高硼低碳B-1950合金在保持Mar-M200合金980℃优越性能的同时，760℃的持久塑性可达2％～5％。主要用于制做发动机涡轮叶片和整体铸造涡轮转子。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条