1)  bias
衬底负偏压
1.
At the substrate temperature of 620℃, crystalline TaO_5 films were sputtered byintroducing suitable negative substrate bias of 100~200V.
采用磁控溅射法,在衬底温度为620℃时,通过引入合适的衬底负偏压(100~200V),获得了结晶良好的Ta_2O_5薄膜,衬底负偏压增强了正离子对衬底表面的轰击作用,加速了其在衬底表面的松弛扩散效应,从而降低了Ta_2O_5薄膜的晶化温度,改善了其结晶性。
2)  substrate
衬底
1.
Effects of substrates on the microstructure of vanadium pentoxide thin films;
衬底对V_2O_5薄膜微观结构的影响
2.
Influence of substrate on shielding effectiveness of metallic mesh under oblique incidence condition;
倾斜入射条件下衬底对金属网栅屏蔽特性的影响
3.
The Status and Development of Substrates for HgCdTe Epilayer;
碲镉汞外延用衬底材料的现状和发展
3)  steel substrate
钢衬底
1.
Silicon nitride film onto steel substrate prepared by RF-PECVD;
RF-PECVD法在钢衬底上沉积氮化硅薄膜的研究
4)  InSb substrate
InSb衬底
5)  Silver Substrate
银镜衬底
6)  substrate temperature
衬底温度
1.
Effect of substrate temperature on the splatting of plasma sprayed droplets;
衬底温度对等离子喷涂熔滴扁平化的影响
2.
Influence of substrate temperature on the structure and photoluminescence of Mg_(0.05)Zn_(0.95)O thin films grown by pulsed laser deposition;
衬底温度对PLD法生长的Mg_(0·05)Zn_(0·95)O薄膜结构和发光特性的影响
3.
The orientation growth of yttria-stabilized zirconia thin films under different substrate temperatures;
衬底温度对钇稳定氧化锆薄膜择优生长的影响
参考词条
补充资料:衬经衬纬圆纬机
      用以编织衬经衬纬针织物的圆型纬编针织机。它在编织平针组织的同时,衬入不参加成圈的经纱和纬纱,形成衬经衬纬针织物。其基本组织结构如图1所示。 这种针织物的纵向和横向的延伸度都较小,具有机织物的特性,除适合做各种外衣外,还可作灌溉用涂塑管道的骨架。在衬经衬纬圆纬机上,有三组纱线:衬经纱、衬纬纱、成圈纱参加编织。其编织机构如图2所示。
  机器的针筒固定在台面上,三角座相对于针筒回转。衬经纱从固定的纱架上引出,通过分经盘(或导经片)由上而下经过针间衬入织物线圈纵行间。所有衬经纱从针筒口向外倾斜一定角度,形成圆锥面,便于成圈纱的喂入。衬纬纱筒子架位于衬经纱外侧,与三角座一起回转,通过导纬器将纬纱衬入针背与经纱之间,依次横向搁在针上的旧线圈上方。成圈纱筒子架位于衬经纱内侧,与三角座同步回转。导纱器处于织针与衬经纱之间,把成圈纱喂入针钩内编织成圈,形成平针组织,同时,使其线圈的沉降弧从内侧包住衬经纱,圈柱从外侧包住衬纬纱,从而使三组纱线结合在一起,形成一种基本的衬经衬纬针织物。  衬经衬纬针织物用于外衣产品时,由于衬经纱和衬纬纱之间没有交织点,易于拱出,因此,需改变其组织结构。例如,通过导经片将衬经纱在针头上绕一圈,并把它向下转移到旧线圈处,再和旧线圈一起向上套圈,使衬经纱与成圈纱结合得更紧密。另外,适当加粗衬纬纱,也可提高衬经衬纬针织物的结构稳定性。
  

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