1) ultra thin SiO 2 film
超薄SiO2膜
2) SiO_2 film
SiO2薄膜
1.
The SiO_2 films at various O_2/Ar flow ratios were prepared by reactive d.
在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜。
2.
0 nm thick SiO_2 film,by vacuum deposition.
0 nm厚SiO2薄膜。
3.
The stability of charge storage of the SiO_2 film electret is improved by the plasma surface treatment of the thermal grown SiO_2 film on the Si substrate.
利用等离子体对硅衬底上热生长SiO2薄膜进行表面处理,提高了二氧化硅薄膜驻极体电荷的储存稳定性。
3) ZrO2/SiO2 film
ZrO2/SiO2薄膜
4) TiO2-SiO2 thin film
TiO2-SiO2薄膜
1.
TiO2-SiO2 thin films were prepared on slide glass substrates by sol-gel method.
当SiO2添加量为30%时,在紫外光照1h时TiO2-SiO2薄膜的光催化活性最佳。
5) SiO2 film
SiO2薄膜
1.
Discuss on the FTIR of the SiO2 film produced by Reactive Sputtering.
用反应溅射法制成了SiO2薄膜,应用傅立叶变换红外吸收光谱图研究其特性。
2.
064 μm pulsed laser induced ripple damage on SiO2 film which was deposited on K9 glass substrate by electron beam evaporation,was been investigated.
064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层SiO2薄膜进行了辐照损伤实验。
3.
Results show that the prepared SiO2 films can increase the transmission of sapphire in mid-wave IR greatly.
采用射频磁控反应溅射法在蓝宝石衬底上制备了SiO2薄膜,测试了镀膜前后蓝宝石试样的红外透过率,测试并分析了镀膜与未镀膜蓝宝石试样在高温及雨蚀后的红外透过性能。
6) SiO2/Si3N4 films
SiO2/Si3N4薄膜
补充资料：超滤膜
分子式：
CAS号：
性质：以压力差为推动力的膜过滤可区分为超滤膜过滤、微孔膜过滤和逆渗透膜过滤三类。它们的区分是根据膜层所能截留的最小粒子尺寸或分子量大小。以膜的额定孔径范围作为区分标准时，则微孔膜(MF)的额定孔径范围为0.02～10μm；超滤膜(UF)为0.001～0.02μm；逆渗透膜(RO)为0.0001～0.001μm。由此可知，超滤膜最适于处理溶液中溶质的分离和增浓，或采用其他分离技术所难以完成的胶状悬浮液的分离。超滤膜的制膜技术，即获得预期尺寸和窄分布微孔的技术是极其重要的。孔的控制因素较多，如根据制膜时溶液的种类和浓度、蒸发及凝聚条件等不同可得到不同孔径及孔径分布的超滤膜。超滤膜一般为高分子分离膜，用作超滤膜的高分子材料主要有纤维素衍生物、聚砜、聚丙烯腈、聚酰胺及聚碳酸酯等。超滤膜可被做成平面膜、卷式膜、管式膜或中空纤维膜等形式，广泛用于如医药工业、食品工业、环境工程等。
CAS号：
性质：以压力差为推动力的膜过滤可区分为超滤膜过滤、微孔膜过滤和逆渗透膜过滤三类。它们的区分是根据膜层所能截留的最小粒子尺寸或分子量大小。以膜的额定孔径范围作为区分标准时，则微孔膜(MF)的额定孔径范围为0.02～10μm；超滤膜(UF)为0.001～0.02μm；逆渗透膜(RO)为0.0001～0.001μm。由此可知，超滤膜最适于处理溶液中溶质的分离和增浓，或采用其他分离技术所难以完成的胶状悬浮液的分离。超滤膜的制膜技术，即获得预期尺寸和窄分布微孔的技术是极其重要的。孔的控制因素较多，如根据制膜时溶液的种类和浓度、蒸发及凝聚条件等不同可得到不同孔径及孔径分布的超滤膜。超滤膜一般为高分子分离膜，用作超滤膜的高分子材料主要有纤维素衍生物、聚砜、聚丙烯腈、聚酰胺及聚碳酸酯等。超滤膜可被做成平面膜、卷式膜、管式膜或中空纤维膜等形式，广泛用于如医药工业、食品工业、环境工程等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条