1) two-step throttle
二级节流
1.
Theoretical and experimental researches are exected to investigate the anti-cavitation and wire-drawing characteristics of two-step throttle when using tap water as the working medium.
由两个节流口组成的二级节流或防止或减轻水压阀汽蚀的有效结构形式。
2) single stage and two stage orificings
一级与二级节流
1.
A comparison between single stage and two stage orificings has been made on the basis of calc ulation results.
6 0 0MW变压运行超临界锅炉设计方案采用垂直上升内螺纹管水冷壁 ,根据水动力计算结果 ,对所采用的一级与二级节流方式作了分析比较 ,认为两种节流方式均可满足水冷壁的安全运
3) multistage throttle
多级节流
1.
The study of multistage throttle valve in oil well control system;
多级节流井控系统的研究
2.
The multistage throttle intelligence control system is a set of complex machines , involves many technologies, most essential technology real - time controls the throttle valve pressure drop using the computer.
多级节流智能控制系统是一套复杂的机、电、液一体化系统,涉及多项技术,其中最关键的技术是应用计算机对井控节流阀压降的实时控制;系统采用计算机电液比例闭环控制,通过研究建立了系统的数学模型,并结合石油天然气井控的相关知识采用PID控制算法,对液动节流阀的阀芯位移和阀压降进行比较准确的控制;没计最大井控压力105MPa,压力控制误差小于0。
4) J-T stage
节流级
5) two_stage flow
二级流量
1.
In this article,on designing PRB7-200/100/25/31 emulsion pump,we adopt the design method of two_stage flow,which adopts stage columnar plug structure and two_stage flow method.
以PRB7— 2 0 0 / 10 0 / 2 5 / 31 5型乳化液泵为例 ,介绍一种二级流量泵的设计方法 ,该泵采用阶梯柱塞结构 ,两级供液方
6) 2-stream and 3-stage
二流三级
1.
The Research of 2-stream and 3-stage Dimpinging Stream Drying Mechanism;
二流三级撞击流干燥机理的研究
补充资料：电子级二氯二氢硅
分子式： SiH2Cl2
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条