1) yttrium stabilized cubic zirconia films
钇稳定立方相氧化锆薄膜
2) yttrial-stabilized zirconia films
氧化钇稳定氧化锆薄膜
1.
The residual stress in yttrial-stabilized zirconia films was measured ZYGO Mark Ⅲ-GPI digital wavefront interferometer.
利用ZYGOMarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定氧化锆薄膜的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度对残余应力的影响。
3) yttria stabilized cubic zirconia polycrytals
氧化钇稳定立方相氧化锆多晶
4) yttiatetragonal zirconia polycrystalline
氧化钇稳定四方相氧化锆
5) yttria_stabilized tetragonal zirconia
钇稳定四方氧化锆
6) yttria-stabiIized tetragonal zirconia
钇稳定四方二氧化锆
补充资料：氧化锆-氧化钇红外陶瓷
分子式： ZrO2-Y2O3
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条