说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 碲化锌插层
1)  ZnTe insertion layer
碲化锌插层
2)  ZnTe complex back contact
碲化锌背接触层
3)  zinc telluride
碲化锌
4)  Cadmium Zinc Telluride(CZT)
碲化锌镉(CZT)
5)  CdZnTe
碲锌镉
1.
Research on Growth and Properties of CdZnTe Single Crystal;
优质碲锌镉单晶的生长及性能测试
2.
Evolution of Solid-liquid Interface of CdZnTe Crystal Growth by Vertical Bridgman Method;
碲锌镉垂直布里奇曼法晶体生长过程固液界面的演化
3.
Morphology characteristics of etch pits on CdZnTe crystals developed by usual etchants;
碲锌镉晶体常用腐蚀剂的坑形特性研究
6)  ZnS 1-x Tex
碲硫锌
补充资料:插层反应
分子式:
CAS号:

性质:嵌入反应中的主体反应物(基质)为层状结构时,客体分子G嵌入层间生成夹层结构。如石墨生成一阶、二阶或三阶嵌入化合物,插层反应的特征是,要有一定的结构开放性,能允许外来原子或离子易于扩散进或逸出晶体。大量层状结构化合物有能力发生插层反应。实验证明,当嵌入的金属有机物为具有低离子化能的良好还原剂时,就可实现电子从客体向主体的转移。这对制备具有较高超导转变温度的材料显示出良好前景。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条