1) Fe-Al magnetic film
Fe-Al系磁性薄膜
2) Al-Cu-Fe thin films
Al-Cu-Fe薄膜
1.
Effect of substrates on characteristics of magnetic co-sputtering Al-Cu-Fe thin films;
基底材料对磁控共溅射Al-Cu-Fe薄膜特性的影响
3) Pd/Fe magnetic films
Pd/Fe 磁性薄膜
4) Fe/Al alloy thin films
Fe/Al合金薄膜
1.
In this paper Fe/Al alloy thin films were fabricated by pulse laser deposition(PLD),and the crystal phase,structure and micro-strain were studied.
采用PLD方法制备了Fe/Al合金薄膜,研究了Fe/Al合金薄膜的物相、结构、应力等。
5) Al/Fe/Cu multiplayer
Al/Fe/Cu多层薄膜
1.
Results show that the Al/Fe/Cu multiplayer was fin.
采用AlCl3 NaCl熔融盐镀铝、FeSO4溶液镀铁、CuSO4溶液镀铜得到了结构完整、界面清晰的Al/Fe/Cu多层薄膜。
6) Al-Fe alloy films
Al-Fe合金薄膜
补充资料:磁性材料2.薄膜磁性材料
磁性材料2.薄膜磁性材料
Magnetie Materials 2.Thin Film
在一定外加磁场作用下,其反磁化畴(磁矩取向与外磁场方向相反的畴)变为圆柱形磁畴。从膜面上看,这些柱形畴好像浮着的一群圆泡,故称磁泡或叫泡踌(另见磁性材料2.昨晶态磁性材料)。在特定的电路图形、电流方向和一定磁场情况下,可做到控制材料中磁泡的产生、传翰和消失,实现信息的储存和逻辑运算的功能。磁泡的直径在微米量级(0 .5~5协m),每个磁泡的迁移率在1 .26~12.6em八s·A/m)〔 102一i03cm八s·oe)〕,因而可制成存储密度为兆位/cmZ(Mbit/cmZ)和数据处理速率为兆位/s(M肠t/s)的运算器件。磁泡器件经过近20年研究和开发,已取得广泛的实际应用。 对磁泡材料的主要要求是:(l)各向异性常数凡>粤斌,磁化强度从>外磁场强度H;(2)杂质缺陷小,2一~”~’.J泌~-一‘产’~~一~一’、~尹一~~~’J”均匀性好。目前研究得比较清楚的有铁氧体单晶薄膜和稀土一过渡金属薄膜。从制备工艺和性能稳定、器件开发等情况看,以铁氧体磁泡材料比较成熟,早期是用钙钦石型铁氧体单晶片来作磁泡材料,后为YIG单晶薄膜所取代。它是用液相外延法在Gd3Ga5OI:(简称GGO)基片上生成的单晶薄膜,其厚为微米量级。表4为稀土石榴石R3FesolZ的磁性;表5为一些磁泡材料的基本特性数值。农4稀土石抽石R.Fe‘ol,的磁性┌───────────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬────┬─────┬────┬────┐│R │Y │Sm │EU │Gd │Tb │Dy │、Ho │Er │T】11 │Yb │Lu │├───────────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼────┼─────┼────┼────┤│补偿温度,~p,K │ 560 │ 560 │ 570 │ 290 │ 246 │ 220 │ 136 │ 84│4
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条