1) InGaN/GaN
InGaN/GaN
1.
High-resolution X-ray diffraction studies on the indium content and layer thicknesses in InGaN/GaN multiquantum wells;
高分辨率X射线衍射研究InGaN/GaN多量子阱结构In组分及厚度
2.
Photoluminescence and Optical Absorption Properties of InGaN/GaN Single Quantum Well Grown by MOVPE;
MOVPE生长的InGaN/GaN单量子阱的光致发光和光吸收特性(英文)
3.
P-GaN bulk material and p-InGaN/GaN superlattice used as p-contact layer are grown by low pressure metal organic chemical vapor deposition(LP-MOCVD),and their specific contact resistivity(SCR)is measured by circular transmission line model(CTLM).
利用低压MOCVD系统,获得了p-GaN和p-InGaN/GaN超晶格结构2种材料,用圆形传输线模型(CTLM)测量了它们的比接触电阻率,并对表面处理、金属沉积和合金化处理的工艺条件进行了优化,得到了550℃、O2氛围下合金30min的最佳条件,获得最低的比接触电阻率为1。
2) InGaN/GaN quantum dots
InGaN/GaN量子点
3) p-InGaN/GaN heterostructures
p-InGaN/GaN异质结
1.
The current-voltage characteristics and surface sheet resistance measurements show that,compared with p-GaN,the optimum annealing temperature of p-InGaN/GaN heterostructures is lower and the nonalloyed Ni/Au ohmic contacts can be obtained.
电流电压特性和表面方块电阻的测试表明,与p-GaN相比,p-InGaN/GaN异质结的最佳退火温度较低,而且容易与非合金化的Ni/Au电极形成欧姆接触。
4) InGaN/GaN MQW
InGaN/GaN多量子阱(MQW)
5) InGaN/GaN LED
InGaN/GaN发光二极管
6) InGaN/GaN multiple quantum wells
InGaN/GaN多量子阱
1.
Study of temperature dependent electroluminescence of InGaN/GaN multiple quantum wells using low temperature scanning near-field optical microscopy;
低温近场光学显微术对InGaN/GaN多量子阱电致发光温度特性的研究
2.
Effect of the ratio of TMIn flow to group Ⅲ flow on the properties of InGaN/GaN multiple quantum wells;
In源流量与Ⅲ族流量之比对InGaN/GaN多量子阱性质的影响
3.
Determination of chemical composition and average crystal lattice constants of InGaN/GaN multiple quantum wells;
InGaN/GaN多量子阱的组分确定和晶格常数计算
参考词条
补充资料:gallium nitride GaN
分子式:
CAS号:
性质:白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性,不溶于水,不与水和浓无机酸反应,稍与稀酸作用,缓慢与碱液反应,空气中加热800℃开始氧化,生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050~1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
CAS号:
性质:白色或微黄色粉末。具有很高的化学稳定性,不溶于水,不与水和浓无机酸反应,稍与稀酸作用,缓慢与碱液反应,空气中加热800℃开始氧化,生成氧化镓。1050℃开始分解。可由气态生长细晶。在1050~1200℃由氧化镓和氨反应或由氯镓酸铵分解制取。为半导体材料和荧光粉。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。